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PEDCV保养作业指导书 ——翁自力一、简介 PECVD（Piasma Enhanced Chemical Vapor Desposition）即“等离子增强型化学气相沉积”。PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。整个系统主要包括以下主要部件：带有阀门和真空泵的真空腔室（装载腔、反应腔、冷却腔、卸载腔）、等离子源、传送系统、工艺气系统、加热系统、冷却和动力系统，整个系统由计算机集中控制。如下图所示：装载腔反应腔冷却腔装载腔A-Viton 真空密封装置B-微波密封圈上盖密封垫的位置1－室门1装载系统2－室门2装载腔－预热/反应腔3－室门3反应腔/冷却腔 卸载腔4－室门4卸物腔－转移阀门在腔室中的位置二、保养（1）保养目的：整个SiNA系统包含4个由4道阀门隔离起来的真空腔室。由于在等离子反应的原因，将会在腔室内部将会产生一层反应产物覆盖层，这将会增加抽真空的时间，并且影响到等离子反应，因此腔室需要进行周期性的清洁保养。（2）保养周期：144-168?h（6-7天）。（3）保养过程1、开启装载腔、冷却腔、卸载腔的上盖。具体操作步骤：通过选择操作屏上对应的上盖，点击“cover1”、“cover3”、“cover4”按钮，使按键变为淡绿色，在点击“open”按钮，后同时按下控制