光伏产业污染物的主要污染特征.docxVIP

光伏产业污染物的主要污染特征光伏废水的主要污染因子：氟离子、COD以及pH值。废水中的氟离子主要来自于生产工序中使用的氢氟酸；废水中的有机污染成份主要来自于制绒槽使用的异丙醇、丙酮（排放频率极少）；酸碱pH值污染因子主要是生产中使用的氢氟酸、盐酸、硝酸以及氢氧化钠等。光伏废水水质特点：/废水污染物浓度变化极大；废水排放流量分时段性；废水的酸碱性极强，废水对设备的腐蚀性大；由于废水中硅酸钠的含量较大，加之醇对细菌的抑制作用，所以废水的可生化性很差；浓异丙醇化学预处理技术 制绒槽排出的异丙醇产生的COD大约为30000-50000mg/L，这部分高浓度废水必须经过化学预处理，否则采用生化工艺去除有机污染物难以取得成功。光伏企业废水来源：1.多晶硅废水:是三氯硅烷还原生成多晶硅过程中产生的尾气经水淋洗产生的.主要反应为:SiHCl3+H2---Si+HCl (产品反应)SiHCl3+H2O---SiO2+HCl (尾气淋洗)废水中主要物质为:SiO2.HCl硅醇及脱水成聚硅氧烷和硅酸,偏硅酸等.废呈强酸性, SiO2的粒径极小,大部分聚成团漂浮的水面.2. 切.磨.抛废水来自三个工序:(1)切片工序主要为:粘石腊,冷却水等, 废水中主要物质为: 石腊,硅粉.(2)磨片工序的磨液成分为:洗液和肥皂制成浮液. 废水中主要物质为:表面活性剂.硅粉.(3)抛光工序的抛光液的成分:环烷烃, 废水中主要物质为:硅粉和烃类有机物.三种废水混合中灰色有乳状体 3. 有机硅废水由氯丙烷在铂酸作催化剂的条件下,与三氯硅烷加成反应生成氯丙基三氯硅烷然后经粗精馏后产生的残液和氯丙烯瓶中的残液,用水冲洗产生的, 废水中主要物质为: 三氯硅烷, 氯丙烷和HCl.氯丙烷和HCl的来源是氯丙烯水解产生的,故废水呈酸性,反应式为:CH2=CH-CH-CH2Cl+H2O----CH2=CH-CH2-OH=H2O三部分废水混合后,废水呈酸性,灰的色乳状有降低(强酸有一定的破乳性),但有胶体存在,主要是硅酸,偏硅酸和硅醇分子间脱水聚缩而成聚硅氧烷引起的4. 硅片清洗废水清洗(酸洗法)废水由以下几部分清洗过程产生:1.SPM（H2SO4、H2O2、H2O）的混合液清洗用H2SO4溶液和H2O2溶液按比例配成SPM溶液，SPM溶液具有很强的氧化能力，可将金属氧化后溶于清洗液，并将有机污染物氧化成CO2和H2O。用SPM清洗硅片可去除硅片表面的有机污物和部分金属。此工序会产生硫酸雾和废硫酸。 2.DHF清洗用一定浓度的氢氟酸去除硅片表面的自然氧化膜，而附着在自然氧化膜上的金属也被溶解到清洗液中，同时DHF抑制了氧化膜的形成。此过程产生氟化氢和废氢氟酸。 3.APM清洗?APM溶液由一定比例的NH4OH溶液、H2O2溶液组成，硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜（约6nm呈亲水性），该氧化膜又被NH4OH腐蚀，腐蚀后立即又发生氧化，氧化和腐蚀反复进行，因此附着在硅片表面的颗粒和金属也随腐蚀层而落入清洗液内。此处产生氨气和废氨水。 4.HPM清洗由HCl溶液和H2O2溶液按一定比例组成的HPM，用于去除硅表面的钠、铁、镁和锌等金属污染物。此工序产生氯化氢和废盐酸。 5.DHF（HF、 H2O2、 H2O的混合液）清洗去除上一道工序在硅表面产生的氧化膜。 5. 砂浆回收废水砂浆回收聚乙二醇,碳化硅过程中产生的废水. 多晶硅电池产生什么污染物：主要是污染水源，产生含有HCL，NAOH，HF,HNO3，KOH，以及银浆，重金属等