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- 2017-09-18 发布于河北
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School of information Science Engineering SHANDONG UNIVERSITY CHINA SiC半导体材料 目录 1.SiC材料的简介 2.SiC衬底的制备 3.SiC外延制备方法 4.SiC光电器件的简介 5.SiC紫外探测器的制备 6.SiC光电器件的前景 1.SiC材料的简介 随着第一代和第二代半导体材料发展的成熟,其器件应用也趋于极限。现代科技越来越多的领域需要高频率,高功率,耐高温,化学稳定性好的第三代半导体。而作为第三代半导体优秀代表的 SiC(silicon carbide),越来越多得受到人们的关注。 2.SiC材料的简介 唯一的固态的IV-IV化合物 天然的超晶格结构、同质多型体。 目前已发现200多种结构,属于三个晶系:立方(cubic)、六方(hexagon)和斜方(rhombus),常见的主要是3C-SiC、 6H-SiC和4H-SiC。 可热氧化,但氧化速率远低于Si 2.SiC衬底的制备 SiC单晶衬底: 本征型、N型掺杂、P型掺杂。 N型掺杂 :氮N P型掺杂:铝Al、硼B、铍Be、镓Ga、氧O。 2.SiC衬底的制备 物理气相传输法(?PVT,physical?vapor?transport)又称升华法,又称改良的Lely法,是制备SiC等
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