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维普资讯 第 3期 纳 米 科 技 No．3 2006年 6月 Nanoscience＆ Nanotechnology June 2006 基于无机纳米粒子模板刻蚀的纳米阵歹U 朱林佩 ， 王 英 ， 张亚非 (上海交通大学微纳科 学技术研 究院，微米／纳米加工技术国家重点实验 室． 薄膜与微细技术教育部重点实验室， 上海 210000) 摘 要：阐述 了利用不同的方法，如 自组装 、嵌段共聚物辅助等方法在基底表面形成一层均匀的无 机材料纳米粒子掩模 ，以此作为模板进行刻蚀，可得到各种纳米图形和纳米结构。这一方法具有操 作简单、成本低 、可批量生产等优点，在纳米电子器件等领域具有广泛的应用前景。 关键词：纳米粒子模板；纳米阵列：刻蚀 NanostructuresEtchedbyInorganicNanoparticleM asks ZHULin—pei， WANG Ying． ZHANGYa—fei (NationalKeyLaboratoryofNano／MicroFabricationTechnology，KeyLaboratoryforThinFilmand MicrofabricationofMinistry ofEducation，InstituteofMicroandNanoScienceandTechnoloyg， ShanghaiJiaotongUniversity，Shanghai 210000，China) Abstract：Itisreviewedthatinorganicnano—materialstemplatesisanew rotetowardnano-patterningfabrication．Nano— patternandnano-structureareformedwithinorganicnano-materialsmasks，whicharecreatedbyvariousmethods，such asserf-assembly，LB approach，viablockcopolymersself—assemblytemplates．Thismethodmentionedinthepaperisof low cost，high throughputand simple procedures．Th e nano—patternscreated in thisway make much prospectof nanometerSCaledevice， Keywords：nanoparticlemasks；nanostructures；etching 中图分类号 ：rrN29 文献标识码 ：A 文章编号 ：1812—1918f2006)03—0023—04 0 引言 纳米结构的制备主要有两种不 同的方法。一 种是传统 的 自上而下 (top—down)的方法 ，包括光 纳米科技的兴起在各个方面影响着人们的生 刻技术和分子束外延技术等。光刻技术由于受到 活，涉及 电子 、传感器 、保健产品及微电子机械系 波长的限制，其最大分辨率难以提高 (约 100nm)2[1。 统 (MEMS)等方面。这些产品的功能取决于其物理 为了获得更小尺寸 的纳米结构 ，近年来兴起一种 或化学性能，而通过选择不 同的材料 ，改变材料 的 新的方法—— 自下而上法 ，如电子束刻蚀 、反应离 结构 、形状 以及周 围环境等各种方法可以改善产