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第 卷第 期 真空与低温
12 4
年 月 VacuumCryogenics
2006 12 215
射频磁控溅射制备类金刚石薄膜的特性
1 1 1 2
赵之明 ,李合琴 ,顾金宝 ,宋泽润
( 合肥工业大学 材料科学与工程学院,安徽 合肥 ;
1. 230009
中国电子科技集团公司 研究所,安徽 合肥 )
2. 43 230022
摘 要:采用射频磁控溅射技术,用高纯石墨靶在单晶硅片、抛光不锈钢片上制备了类金刚石薄膜( )。采用
DLC
Raman光谱、原子力显微镜、显微硬度分析仪,表征了类金刚石薄膜的微观结构、表面形貌、硬度。结果表明,制备的类
金刚石薄膜中含 2 3 3
、 杂化碳键,具有典型的类金刚石结构特征。计算表明,对应 杂化碳原子含量的 1 为
spsp sp II
D G
;薄膜的表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度 为 ;薄膜硬度可以高达 。
3.18 Ra 0.17nm 30.8GPa
关键词:射频磁控溅射;类金刚石薄膜;拉曼光谱;原子力显微镜;显微硬度 n
中图分类号: 文献标识码: 文章编号:
TB43 A c 1006-7086(2006)04-0215-04
.
PROPERTIESOFDIAMONDLIKECARBONFILMSPREPAREDBYRF
MAGNETRONSPUTTERING
m
o
1 1 1 2
ZHAOZhi-ming,LIHe-qin,GUJin-bao,SONGZe-run
(1.SchoolofMaterialsScienceandEngineering,HeifeiUniversityofTechnology,Hefei230009,China;
c
.
2.No.43researchIns
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