射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响3.pdfVIP

第 54 卷 第 4 期 2005 年 4 月 物 　理 　学 　报 Vol. 54 ,No. 4 ,April ,2005 ( ) 10003290200554 04 188505 ACTA PHYSICA SINICA 2005 Chin. Phys. Soc. 射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响 李红轩 　徐 　洮 　陈建敏 　周惠娣 　刘惠文 ( 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室, 兰州　730000) ( ) 2004 年 6 月 8 日收到;2004 年 7 月 23 日收到修改稿 　　利用直流射频等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜 ,采用原子力显微镜、 Raman 光谱、x 射线光电子能谱、红外光谱和纳米压痕仪考察了射频功率对类金刚石薄膜表面形貌、微观结构、硬度 和弹性模量的影响. 结果表明 ,制备的薄膜具有典型的含 H 类金刚石结构特征 ,薄膜致密均匀 ,表面粗糙度很小. 随 着射频功率的升高 ,薄膜中成键 H 的含量逐渐降低 ,而薄膜的 sp3 含量、硬度以及弹性模量先升高 ,后降低 ,并在射 频功率为 100 W 时达到最大. 关键词 : 等离子增强化学气相沉积 ,类金刚石薄膜 ,射频功率 ,结构和性能 PACC : 8115H , 6855 , 7830 源则用来控制等离子体能量 ,从而实现等离子密度 1 引 言 和等离子体能量的单独控制. 我们利用 DCRFPECVD 技术在单晶硅表面制 ( ) 类金刚石 diamondlike carbon , 简称 DLC 薄膜 ( ) 备了 DLC 薄膜 ,利用原子力显微镜 AFM 、Raman 光 作为一种非晶碳膜 ,具有诸多类似于金刚石的优良 ( ) ( ) 谱、x 射线光电子能谱 XPS 、红外 IR 光谱和纳米 性能 ,如高硬度、低摩擦系数、高耐磨性以及良好的 压痕仪等现代分析仪器 ,考察研究了射频功率对薄 化学稳定性、导热性、电绝缘性、光透过性和生物相 膜表面形貌、微观结构和机械性能的影响. ( 容性等 ,作为新型功能薄膜材料 ,在许多领域 如机 械耐磨涂层、光学窗口、微电子机械系统以及半导体 2 实 　验 ) [1 ] 材料等 都有着巨大的应用前景 . 目前已经出现了 ( ) [2 ] ( ) [3 ] 物理气相沉积 PVD 、化学气相沉积 CVD 和电 [4 ]