CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量3.pdfVIP

2002. 4 ( 132) ·3 · CVD 金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量 200030 　上海交通大学机械动力工程学院 　晋占峰 　孙方宏 　简小刚 　胡 　斌 　陈 　明 ( ) 摘　要 　本文以氢气和丙酮为原料 ,采用电子增强热丝 CVD 法 ,在硅片 100 基体上沉积一层金刚石薄膜 , 并采用光刻法和湿式各向异性刻蚀技术制备出金刚石薄膜自支撑窗口试样。实验结果表明 ,所制备的金刚石薄 膜自支撑窗口刻蚀彻底 ,形状规则 ,能够很好地满足鼓泡法的实验要求 ,对 CVD 金刚石薄膜力学性能的测量具有 重要意义。 关键词 　金刚石薄膜 　硅基体 　化学刻蚀 　鼓泡法 ABSTRACT 　Diamond thin film is deposited on silicon slice ( 100) , using hydrogen and acetone as gas resource , by means of electron - enhanced hot filament chemical vapor deposition ( HFCVD) . Free - standing window sample of diamond thin film was fabricated by means of photolithography and anisotropic wet etching. According to the test results , the window of the sample was etched thoroughly and the window figure of the sample was regular. So , the sample is very suitable for bulge test. It is significant for testing of performance of CVD diamond thin film. KEYWORDS 　diamond film ; silicon substrate ; chemical etching ; bulge test 1 　引言 刻蚀硅基体形成自支撑窗口的同时不会损坏到薄膜。 ( ) 近年来 ,采用化学气相沉积 CVD 法、等离子化学 经实验研究表明 :所制备的金刚石薄膜自支撑窗口形 ( ) 气相沉积 PCVD 法、火焰燃烧法、物理气相沉积 状规则 ,刻蚀彻底 ,残余内应力小 ,能够很好地满足鼓 (PVD) 法、化学气相输运法、粒子束沉积法以及激光化 泡法的实验要求。在此基础上 ,进一步研究了应用鼓 ( ) 学气相沉积 LECVD 法等来制备金刚石薄膜材料的研 泡法测量金刚石薄膜力学性能的基本原理和实验装 究已经取得了突破性进展 ,金刚石薄膜的制备与应用 置 ,对于金刚石薄膜的推广应用具有重要意义。 已经成为薄膜材料领域中一个重要的研究方向。金刚 2 　金刚石薄膜窗口的制备方法 石薄膜的制备和实际应用与其力学性能密切相关。对 窗口制作过程示意图如图 1 所示 : 金刚石薄膜的弹性模量、泊松比、残余应力等力学性能 的测量在技术上仍然有很大的难度 ,这直接制约着金 刚石薄膜材料的推广应用。在已有的薄膜力学性能测 量方法中 ,只有鼓泡法最有可能发展成为综合评价薄 膜材料各项性能的有效方法。鼓泡法是在带有薄膜的 试样上制出薄膜窗口 ,通过测试装置向薄膜施加压力 , 使薄膜受到均布载荷而产生变形 ,变形量与薄膜的力 学性能有关 ,通过测量压强和薄膜的变形 ,得到其中的 关系 ,可以计算出薄膜的力学性能。