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基于聚合物墙的柔性双稳态近晶A型液晶 器件的制备及其电光性能研究 路洋，郭金宝，王昊，魏杰 北京化工大学 材料科学与工程学院，北京 100029 离子掺杂近晶A型液晶（Ion-doped SmA LC）与聚合物墙复合材料在柔性显示领域具有广泛的应用价值。离子掺杂近晶A型液晶具有双稳态特性，在不同频率的交流电场中具有不同的分子排列方式：在高频交流电场中呈透明态，液晶分子呈规整的层状定向排列；在低频交流电场中呈散射态，液晶分子由于电流体动力学不稳定性作用从而呈现散射焦锥态排列，在撤去电场后两种状态可以各自保持稳定。本研究通过光刻法制备了单基板聚合物墙结构，并通过紫外光诱导相分离的方法将液晶封装在双基板间的聚合物墙像素内。该显示器件具有良好的电光性能、快速响应性和高对比度，并具有稳固的机械性能，该优势使得聚合物墙显示器件在低功耗、轻质的柔性液晶显示领域具有很好的应用前景。 关键词：A型液晶，双稳态，聚合物墙，相分离( 基于聚合物墙的柔性双稳态近晶A型液晶 器件的制备及其电光性能研究 路洋，郭金宝*，王昊，魏杰* 北京化工大学 材料科学与工程学院，北京，100029 关键词：A型液晶 双稳态 聚合物墙 相分离 离子掺杂近晶A型液晶（Ion-doped SmA LC）与聚合物墙复合材料在柔性显示领域具有广泛的应用价值。离子掺杂近晶A型液晶具有双稳态特性，在不同频率的交流电场中具有不同的分子排列方式：在高频交流电场中呈透明态，液晶分子呈规整的层状定向排列；在低频交流电场中呈散射态，液晶分子由于电流体动力学不稳定性作用从而呈现散射焦锥态排列，在撤去电场后两种状态可以各自保持稳定。 聚合物墙最初通过电场诱导相分离的方法得以制备[1,2,3]，液晶（LC）和光聚合单体（photosensitive monomers，PM）具有不同的介电常数，因此在电场中受开尔文极化力的作用实现相分离[4]，液晶向电场强度大的区域迁移，单体向电场强度小的区域迁移[5]。单基板的聚合物墙通过光诱导相分离的方法制备出来[6]，液晶与单体的混合物涂层通过前期选择性曝光形成聚合物墙、后期整体曝光形成聚合物顶层，从而将液晶封装在聚合物墙和聚合物层间的像素内。双基板聚合物墙通过两步曝光可以获得[7]，前期选择性曝光形成聚合物墙，后期整体曝光使液晶中残留的少量光聚合单体形成聚合物纤维，从而实现聚合物对双基板的粘合，液晶层的厚度可以通过间隔球或间隔垫的加入得以良好的控制。 本研究通过光刻法制备了单基板聚合物墙结构，并通过紫外光诱导相分离的方法将液晶封装在双基板间的聚合物墙像素内。该显示器件具有良好的电光性能、快速响应性和高对比度，并具有稳固的机械性能，该优势使得聚合物墙显示器件在低功耗、轻质的柔性液晶显示领域具有很好的应用前景。( 通过对负性光固化树脂进行紫外光选择性曝光及碱液显影，制备了聚合物墙。光固化树脂由丙烯酸酯类预聚物、单体、光引发剂组成，预聚物为丙烯酸酯类预聚物（购自Sartomer公司），单体为IBOA和HDDA（购自Sartomer公司），光引发剂为Irgacure651。光固化树脂涂布在柔性ITO膜上，经光刻法制备出聚合物墙结构，将液晶和光聚合单体的混合物充分添加到聚合物墙结构的像素中，并用上基板ITO膜封装，通过紫外曝光使光聚合单体向上基板迁移，并聚合形成聚合物层，从而得到聚合物墙支撑的离子掺杂近晶A型液晶显示器件，该过程参见图1。该器件在偏光显微镜下的照片见图2，近晶相液晶在偏振片下可以观察到其特殊的织构，像素内的液晶受电场影响呈现规整、杂乱两种不同的排列方式，而聚合物墙与上基板粘合区域中残留的液晶不受电场影响，因此图中聚合物墙顶区域可以看到近晶相液晶的织构。 图1. 聚合物墙的制备及液晶的封装过程示意图。 ①涂膜，②前烘，③选择性曝光，④显影， ⑤聚合物墙，⑥填充液晶/单体混合物，⑦曝光及封装 Fig 1. Schematic of polymer wall fabrication and liquid crystal encapsulation. ①coating, ②prebaking, ③selective exposure, ④development, ⑤polymer wall, ⑥LC/PM mixture addition, ⑦encapsulation and exposure 图2. 聚合物墙封装液晶器件的偏光显微镜照片 （a）为透明态，（b）为散射态 Fig 2. Polarizing optical microscope images of polymer wall/LC device at (a) transparent state and (b) scattering state 该器件具有良好的电光性能，图3所示为离子掺杂