TiO2表面包覆SiO2和Al2O3的机理和结构分析[J].pdfVIP

V o l. 19 高 等 学 校 化 学 学 报 N o. 11　 1 9 9 8 年 11 月 　　 　　　 CH EM ICAL JOU RN AL O F CH IN E SE U N IV ER S IT IE S　　　　　 1727～ 1729　 [ 研究简报] 2 表面包覆 2 和 2 3 的机理和结构分析 T iO SiO A l O 崔爱莉　王亭杰　金　涌　 肖帅刚　盖旭东 (清华大学化工系, 北京, 100084) 关键词　二氧化钛, 包覆, 二氧化硅, 三氧化铝 分类号　 6 12. 4 O 在二氧化钛的表面上包覆一层保护膜, 使二氧化钛的表面和周围介质之间产生屏障, 从 而降低二氧化钛的光化学活性, 有利于提高二氧化钛的分散性、耐光性、耐候性和抗粉化性. 影响颗粒包膜均匀性和致密性的主要因素是颗粒的分散、加料方式、溶液的酸度和陈化时间 等. 包膜的均匀性和致密性直接影响钛白粉的各项性能指标. 我国高档钛白粉一直靠国外进口, 因而研究二氧化钛表面处理对提高钛白粉的质量和应 用具有重要的意义. 本文报道了二氧化钛表面包硅和包铝膜的机理和包膜的表面结构研究结 果. 1　实验部分　 1. 1　包膜实验　向含有 20%～ 30% 的二氧化钛浆液中加入分散剂, 调节溶液pH = 95 进行 预分散. 在 85～ 90 ℃条件下, 控制 SiO 2 与 T iO 2 的质量比为 2%～ 3% , 用硅酸钠调溶液的 pH = 85, 陈化 2 h , 完成包硅膜. 在此基础上, 维持温度在 70 ℃ , pH = 85, 加入硫酸铝和 ( ) 稀氢氧化钠, 硫酸铝的化学计量控制在 2 3 2 = 3% 质量分数 , 用硫酸铝调浆液的 A l O T iO pH 至 70, 陈化 4 , 水洗至无 2- , 过滤, 100 ℃干燥, 得到硅铝二元包膜的二氧化钛. h SO 4 1. 2　T iO 2 的 电位的测定　用美国B rookh aven 公司的 Zeta p lu s 电位仪对 T iO 2 进行测 [ 1 ] 定 . 结果见图 1. 由图 1 可以看出, = 10 左右 电位值最大, 表明此时排斥力最大, 有利 pH 于 T iO 2 的单分散. 1. 3　样品表征　把表面包膜的T iO 2 用H 900 高分辨透射电镜进行形貌分析, 结果见图2. 用美国P E 公司 PH I5300 E SCA 型X 光电子能谱仪微区扫描进行表面成分分析, 结果见表 1. Table 1　E lem en t con ten ts (% ) on the surface of coa ted and uncoa ted T iO 2 part icles E lem en t A l Si