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第 44 卷第 9 期 中南大学学报(自然科学版) Vol.44 No.9
2013 年 9 月 Journal of Central South University (Science and Technology) Sep. 2013
阴极弧离子镀 TiAlSiN 涂层的微观组织与性能
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孔德军 ，付贵忠 ，张垒 ，王文昌
(1. 常州大学 机械工程学院，江苏 常州，213016；
2. 常州大学 石油化工学院，江苏 常州，213164)
摘要：采用阴极弧离子镀法在 GH4169 Ni基合金表面制备 TiAlSiN涂层，通过 SEM，EDS，XRD和 XPS 等手段
对 TiAlSiN 涂层表面−界面形貌、能谱以及物相结合能谱进行测试分析，并对其结合界面化学元素进行线扫描分
析，讨论涂层界面结合机理。研究结果表明：TiAlSiN涂层主要成分为 Al，Ti，Si和 N 元素，化学元素分布均匀，
表面没有产生富集现象；涂层具有较强的 TiSi 和 SiN 择优取向化合物，为非晶结构；TiAlSiN 涂层是由 TiN，
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AlN和 SiN 等物相组成，Si元素以 SiN 非晶相形式包覆在(Al,Ti)N 晶界，细化了涂层晶粒尺寸，其显微硬度达
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到 3 200；涂层在结合界面发生一定的扩散，与基体形成化学结合方式，划痕法测得其结合强度为40.5N。
关键词：阴极弧离子镀法；TiAlSiN涂层；组织结构；结合界面；结合强度
中图分类号：UTG174.444，TH117.1 文献标志码：A 文章编号：1672−7207(2013)09−3645−07
Microstructures and properties ofTiAlSiN coating prepared by
cathodic arc ion plating
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KONG Dejun , FU Guizhong , ZHANG Lei , WANG Wenchang
(1.College of Mechanical Engineering, Changzhou University, Changzhou 213016, China;
2. School of Petrochemical Engineering, Changzhou University, Changzhou 213164, China)
Abstract: TiAlSiN coating was prepared on the surface of GH4169 Nibased high tempe
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