基片温度对镓钛共掺杂氧化锌透明导电薄膜性能的影响.pdfVIP

基片温度对镓钛共掺杂氧化锌透明导电薄膜性能的影响.pdf

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No.1 第32卷第1期 中南民族大学学报(自然科学版) V01.32 ofSouth—Central for Mar.2013 2013年3月 Journal Nationalities(Nat.Sci.Edition) University 基片温度门砸J『灵对镓钛共掺杂氧化锌 透明导电薄膜性能的影响 钟志有,张 腾,汪 浩 (中南民族大学电子信息工程学院,武汉430074) 摘要以镓钛共掺杂氧化锌(GTZO)陶瓷靶作为溅射源材料,采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了GTZO 透明导电薄膜,通过X射线衍射仪(XRD)、可见一紫外光分光光度计和四探针仪等测试表征,研究了基片温度对 GTZO薄膜晶体结构、电学性质和光学性能的影响.结果表明:所制备的GTZO薄膜均为六角纤锌矿结构,并具有 (002)择优取向,其结晶质量、晶粒尺寸、方块电阻、透过率、光学能隙以及品质因数都与基片温度密切相关,当基片 温度为350oC时,GTZO薄膜的品质因数最大,具有最佳的光电综合性能. 关键词氧化锌薄膜;掺杂;光电性能 中图分类号TM914文献标识码A文章编号1672-4321(2013)01-0058-07 of InfluenceSubstrate on of Temperature Transparent Properties GalfiumandTitaniumZincOxideThinFilms Conducting Doped Zhong Hao Zhiyou,Zhang死粥,Wang ofElectronicInformation for (College Engineering,South-CentralUniversityNationalities,Wuhan430074,China) AbstractGalliumandtitanium zinc filmswere doped oxide(GTZO)thin magnetron depositedbyradio—frequency a sinteredceramic of and method influencesubstrate on sputteringusing target.The temperaturecrystalline,optical electrical ofGTZOfilmswas and transmission properties investigatedbyX—raydiffraction(XRD),four—pointprobeoptical

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