TiN001表面上3N1Ti1Si岛构型及其演变的第一性原理研究.pdfVIP

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第34卷第6期 发 光 学 报 V01.34No.6 2013年6月 CHINESEJOURNALOFLUMINESCENCEJune,2013 文章编号:1000-7032(2013)06-0727-05 TiN(001)表面上3N1TilSi岛构型及 其演变的第一性原理研究 刘学杰+,吴 帅,任 元 (内蒙古科技大学机械工程学院,内蒙古包头014010) 岛的各构型的总能量和吸附能,并计算了Si.in.3N1Ti构型转向Ti—in.3N1Si构型的两种演变方式所对应的激 活能。计算结果表明:在3NITilSi的几种构型中,Ti.in.3NISi构型是最低能量的稳定结构,这种构型是由SiN 相从TiN相中分离出来而形成的:两种演变方式中以Si粒子迁出Ti粒子迁入所需构型演变的激活能较小,更 适当增加氮分量有利于SiN与TiN的分离。 关键词:界面形成条件;相分离;构型演变;激活能;第一性原理 中图分类号:TB332 文献标识码:A DOI:10.3788/fgx0727 Evolutionof3N1TilSiIslandon and Configuration Initio TiN(001)Surface:AbStudy LIU Yuan Shuai,REN Xue-jie‘,WU (SchoolofMechanical MongoliaUniversityofScienceTechnology,Bootou014010,China) Engineering,Inner }CorrespondingAuthor,E-mail:xuejieliu2000@yahoo.corn in ofTi-Si-N seriesof orderto theinterfaceformationthe Abstract:In films,a study growthprocess calculationshavebeencarriedoutwiththefirst methodto thetotal and principle investigateenergies ofsome3N1TilSiisland onthe alsothe adsorptionenergies configurationsTiN(001)surface,and Ti theTi—in. activation oftwokindsoftransf(,rmationsfromtheSi.in.3N1 to energies configuration 3N1Si calculationssome

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