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第30卷第3期 红外与毫米波学报 V01．30．No．3
2011年6月 J．InfraredMillim．Waves June．20ll
文章编号：1001—9014(2011)03—0224—05
退火对用PLD法制备ZnO薄膜的发光影响
魏显起， 王勇杰， 张 仲
(济南大学物理科学学院，山东济南250022)
摘要：用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(11I)和蓝宝石衬底上制备的氧化锌薄膜，在不同的退火温度和不同的退火
氛围中进行了退火处理．退火温度及退火氛围对ZnO薄膜的结构和发光特性的影响用X射线衍射(XRD)谱和光
致发光谱进行了表征．实验结果表明，随着退火温度的提高，ZnO薄膜的压应力减小，并向张应力转化．在不同的退
火温度退火的薄膜的光致发光谱表明，随着退火温度的提高，薄膜的紫外发射逐渐增强，缺陷发射逐渐减小．在不
同退火条件下的退火实验表明，在蓝宝石衬底上、氧气氛围中退火的薄膜，在700℃时呈现无应力，紫外发射强度对
可见发射强度的比例最大．
关键词：PLD；ZnO薄膜；应力；晶体结构；光致发光谱
中图分类号：O469 文献标识码：A
Effectof on ofZnOthinfilms
annealingoptical
properties
WEI
Xian-Qi，WANGYong-Jie，ZHANGZhong
of of
(School Jinan，Jinan250022，China)
Physics，University
oxidethinfilmsfabricatedon 1 substrates laser an·
Abstract：Zinc si(11)and
sapphire bypulsed
nealedatdifferent andindifferent effectsof and
temperatures ambient，respectively．Theannealingtemperatureannealing
ambientonstructuraland ofZnOthinfilmshavebeencharacterized
opticalproperties by diffraction(XRD)and
X-ray pho-
resultsshowthatwiththeincreaseof the
toluminescence(PL)spectra．Theexperimental annealing compres—
temperature
filmsdecreasedand
sivestressofZnOthin is shiftedtowardsstrainstress．PLofZnOthinfilmsannealedatdiffer-
spectra
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