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黔 第4期 曼 V_o1.28No.4
【电镀】
铁电极上HEDP镀铜的电化学行为
高海丽 ,曾振欧 一,赵国鹏
(1.华南理工大学化学与化工学院,广东 广州 510640;2.广州市二轻工业科学技术研究所,广东 广州 510170)
摘 要:通过测量开路电位~时间曲线和阴极极化曲线,研究了 First-author’s address:College of Chemistry and
HEDP镀铜液在金属铁上电沉积铜的电化学行为。结果表明, Chemical Engineering, South China University of
HEDP镀铜液的组成影响金属铁在溶液中的稳定开路电位和金 Technology,Guangzhou510641,China
属铁上电沉积铜的阴极极化 增大溶液中HEDP的浓度或提高
HEDP与 cu2的摩尔比,铁电极的稳定开路电位 负移 ,可减缓
1 前言
和消除铁与铜 离子的置换反应,提 高铜镀层与铁基体的结合力;
金属铁上电沉积铜的阴极极化增大,有利于得到致密的铜镀层。 为了替代污染严重的氰化物镀铜工艺,实施 电镀
镀液pH升高,铁在镀液中的稳定开路电位稍有正移,但在金属 工业的清洁生产,开发和研究各种环保型的无氰镀铜
铁上电沉积铜的阴极极化增大。在HEDP镀铜液中电沉积铜的
新工艺 已成为当前人们广泛关注的重要课题 们。在各
阴极过程发生电化学极化,阴极极化曲线服从Tafel关系。
种无氰镀铜工艺中,HEDP镀铜液的成分简单,可在
关键词:铁;电镀铜;无氰;羟基 乙叉二膦酸;开路电位;极
化曲线;结合力 钢铁基体上直接 电镀,具有 良好的分散能力,所得镀
中图分类号:TQ153.14 文献标志码:A 层结晶细致,是最有希望替代氰化物镀铜的理想工艺。
文章编号:1004—227X(2009)04—0001—04 目前有关 HEDP镀铜的研究依然局限于工艺条件方
Electrochemicalbehavior ofcopper depositon iron
面,而系统的理论研究相对较少[11-12]。另外,HEDP
electrodein HEDP bath //GAO Hai.1i.ZENG Zhen.ou*,
ZHAOGuo—peng 镀铜在 已有的实际工业应用中出现了可供选择的电流
Abstract:TheelectrochemicalbehaviorofCudepositon 密度上限低 ,镀层表面有麻砂 ,镀层与铁基体结合力
Fe metalin aHEDP bath wasstudied by measuring the
欠佳等问题,目前很难有合理的解释 。因此,系统全
variation ofopencircuitpotentialwith timeand cathodic
面地研究 HEDP镀铜的电极过程具有十分重要的科学
polarizationcurves.Theresultsshowedthatthecomposition
ofHEDPplatingbathaffectsthestableopencircuitpotential 意义。本文主要是在不含辅助配位剂和其他添加剂的
ofFeelectrodeinthebathandthecathodicpolarizationofCU
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