铁氧体薄膜的结构和磁性.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 .# $ %$$’ $ ， ， ， ST3 -.# (T - $ B;UTV9H %$$’ （ ） $$$*#%M$E%$$’E.# $ E#..$*$. @NO@ PQ?RN@ ?R(RN@ !%$$’ ND), - D4W - ?T; - !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! !#$% 铁氧体薄膜的结构和磁性 高建华 崔艺涛 杨 正! （兰州大学磁性材料研究所，兰州 #$$$$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %$$# % %$$’ % %# 采用交替溅射方法制备了()*+, 铁氧体薄膜，并研究了薄膜成分和制备条件例如热处理温度、氧分压、膜厚、衬 底层等因素对 铁氧体薄膜的影响 实验表明沉积态薄膜为非晶态，经大气中不同温度热处理后得到了尖晶石 ()*+, - 结构，其主峰为（ ）峰 另外，通过不同条件对 铁氧体薄膜的研究，找到了合适的 铁氧体薄膜的制备 # - ()*+, ()*+, 条件- 关键词：薄膜， 铁氧体，交替溅射 ()*+, ： ， ’(( .$ ..$/ 引 言 半导体集成技术的发展要求电子元器件向小型 化、平面化方向发展，部分器件将由三维材料向二维 材料发展，例如平面薄膜电阻、电容、电感等 而设计 - 平面电子元器件关键的一步就是制备电、磁等各种 性能优良的薄膜- 本文主要研究一种具有发展潜力 的高频薄膜电感用铁氧体薄膜材料———()*+, 铁氧 ［— ］ = 体薄膜，文献中也有相当的研究 ，这里采用射频 溅射方法制备了()*+, 铁氧体薄膜，并研究了制备 图 双靶射频溅射原理简图 条件对薄膜结构和性能的影响- % 实 验 表 薄膜制备条件 过程 项目 条件 本底气压E $ F ’ 2 ’ -$—G 本文用北京仪器厂的/?*’.$@ 型双靶射频溅 溅射气体 @H I B