纳米氧化铝微晶玻璃抛光液的制备与性能研究设计论文.pdfVIP

纳米氧化铝微晶玻璃抛光液的制备与性能研究设计论文.pdf

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纳米氧化铝微晶玻璃抛光液的制备与性能 研究 高分子材料与工程专业 朱敏华(079034068)指导老师:乔红斌 副 教授 摘 要 综述了化学机械抛光(CMP )技术、抛光液成分和抛光工艺条件。通过对 纳米氧化铝(α-Al O )磨料进行表面包覆改性,制得了硅烷偶联剂KH-550 处 2 3 理的α-Al O 、聚丙烯酰胺(PAM )处理的α-Al O 和环氧树脂E-44 处理的α-Al O 2 3 2 3 2 3 复合磨粒。分别采用上述制得的复合磨粒配制成抛光液,然后对微晶玻璃进行 抛光试验,结果表明当载荷为5161 Pa,抛光盘转速为100 r/min,抛光垫为聚氨 酯时,PAM 处理的α-Al O 抛光液的材料去除率最大可达到57.28 nm/min 。利 2 3 用扫描电镜(SEM )对包覆前后的α-Al O 的微观结构进行表征,结果表明复合 2 3 磨粒比α-Al O 粒径大,分散稳定性好。利用傅立叶变换红外光谱仪对包覆前后 2 3 的α-Al O 进行结构表征,结果表明α-Al O 表面包覆了高分子。利用三维光学 2 3 2 3 干涉形貌仪对微晶玻璃抛光后的表面形貌进行表征,结果表明微晶玻璃表面粗 糙度大幅度降低,其中经过E-44 处理的α-Al O 抛光的微晶玻璃的表面质量较 2 3 好,其表面粗糙度Sa 值达到1.38 nm。 关键词:化学机械抛光,材料去除率,表面粗糙度,纳米氧化铝,微晶玻璃 第 I 页 Abstract The chemical mechanical polishing (CMP) technique, various kinds of constituents of slurry and polishing process conditions were reviewed. Through surface coating on nano-alumina (α-Al O ) abrasive, α-Al O coated with silane 2 3 2 3 coupling agent KH-550, polyacrylamide (PAM) and epoxy resin E-44 composite abrasives were prepared, respectively. Composite abrasives slurry were prepared, polishing experiment on microcrystalline glass was done. The result shows that the material removal rate of α-Al O coated with PAM can reach 57 nm/min when 2 3 polis

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