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- 2017-09-10 发布于湖北
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第二章 半导体中的杂质和缺陷 理想半导体: 1、原子严格周期性排列,具有完整的晶格 结构。 2、晶体中无杂质,无缺陷。 3、电子在周期场中作共有化运动,形成允带和禁带——电子能量只能处在允带中的能级上,禁带中无能级。 ?本征半导体——晶体具有完整的(完美的)晶格结构,无任何杂质和缺陷。由本征激发提供载流子。 实际半导体 实际半导体中原子并不是静止在具有严格周期性的晶格位置上,而是在其平衡位置附近振动; 实际半导体并不是纯净的,而是含有杂质的; 实际的半导体晶格结构并不是完整无缺的,而是存在着各种形式的缺陷,点缺陷,线缺陷,面缺陷; 主要内容 B:替位式→杂质占据格点位置。大小接近、电子壳层结构相近 定义: 施主杂质 V族元素在硅、锗中电离时能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心,称此类杂质为施主杂质或n型杂质。 施主电离 施主杂质释放电子的过程。 施主能级 被施主杂质束缚的电子的能量状态,记为ED,施主电离能量为ΔED。 n型半导体 依靠导带电子导电的半导体。 电离的结果:价带中的空穴数增加了,这即是掺受主的意义所在 定义: 受主杂质 III族元素在硅、锗中电离时能够接受电子而产生导电空穴并形成负电中心,称此类杂质为受主杂质或p型杂质。 受主电离 受主杂质释放空穴的过程。 受主能级 被受主杂质束缚的空穴的能量状态,记为EA。受主电离能量为ΔE
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