磁控溅射Ni56Mn27Ga17合金薄膜的光学反射特性研究.pdfVIP

第 3期 周 围，等：磁控溅射 NI56Mn2Gal合金薄膜的光学反射特性研究 ·79 ‘ 光波的波长在300~800am之间变化时，薄膜的反射率均随波长的增大而增大；但在200~800am整体 波长范围内时，退火温度高的试样反射率反而低。根据以往研究结果，光学薄膜的反射率与薄膜表面粗 糙度密切相关[13]。Beckman标量散射理论[1]认为，光学薄膜反射率与均方根粗糙度之间的关系可表 示为： RR0exp[一丢()] ㈤ 式中R 为表面粗糙薄膜的反射率，R0为光滑表面薄膜的反射率，r／为人射光线所在介质的折射率 (本文 为空气介质， 一1)，为波长，为薄膜表面均方根粗糙度。由此可知，表面粗糙薄膜的反射率与其均方 根粗糙度成反比。由于不同退火处理条件下NiMn2Ga薄膜试样的表面均方根粗糙度是不同的，且随 退火温度的升高薄膜表面粗糙度增大，因此，在200~800nm整体波长范围内，退火温度高的试样光学反 射率低。从图3还可以看出，不同退火温度下，薄膜的反射率发生较大变化，当入射光波波长为 800nm 时，经 1023K退火 1h试样与经873K退火 lh试样的反射率相差大于20 。而