（Zr,Al）N薄膜的微结构及性能研究.pdfVIP

维普资讯 第 23卷第 1期 材 料 开 发 与 应 用 ·21 · 文章编号 ：1003—1545(2008)01—0021—05 (Zr，A1)N薄膜 的微结构及性能研究 葛云科 ，顾晓波，喻利花 ，许俊华 (江苏科技大学材料科学与工程学院，江苏 镇江 212003) 摘 要 ：采用射频磁控反应溅射在单 晶Si(100)上沉积 了一系列不 同Al含量 的 (Zr，A1)N薄膜 ，利用能谱仪 (EDS)、X射线衍射仪 (XRD)、扫描 电镜 (SEM)和微力学探针对薄膜的成分、结构、力学和抗氧化性能进行了表 征 。研究结果表明，当Al含量在 0 ～2O．31 (原子分数)之间时，薄膜是 B1型 (NaC1)单相结构 ；当Al含量 为 31．82％时，同时出现 B1和 B4型 (ZnS)双相结构。当Al含量超过 36．82 时，以B4结构为主 。随着铝含量 的增加，薄膜晶面间距减小，晶格常数变小。薄膜的力学性能测试表明，适当的Al含量可以提高薄