纳米颗粒对镁合金微弧氧化膜层表征的影响项目研究报告.docVIP

江苏科技大学（张家港）本科生创新计划 纳米颗粒对镁合金微弧氧化膜层表征的影响 研 究 报 告 主 持：刘启明 指导老师：王淑艳 2014年1月2日 目 录 一．绪论 二．镁合金微弧氧化实验材料及膜层制备 三．镁合金微弧氧化膜层形貌分析 四．镁合金微弧氧化膜层耐蚀性的测定分析 五．镁合金微弧氧化膜层耐磨性的测定分析 六．成果一览 一．绪论 作为最轻质的金属结构材料，镁合金具有密度小、热导率高、铸造性好、尺寸稳定性好、减震能力强、机加性能优良等优点，因此越来越受到人们的青睐；但其硬度低、对应力集中较敏感、耐磨和耐蚀性差仍是影响镁合金大范围使用的重要因素，因此必须通过相应的处理来提高其相关性能。微弧氧化是目前镁合金表面处理技术的研究热点之一，它依靠弧光放电产生的瞬间高温高压作用，在合金表面生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层，从而提高镁合金的耐蚀耐磨等性能。而微弧氧化陶瓷膜层的性能受很多因素的影响，包括电解液的组成、电参数的设置等。其中对电解液的研究集中在基础电解液的配置和添加剂的选择上，通过向电解液中加入不同的添加剂可提升膜层的相关性能。由于一些纳米粒子本身具有耐磨、耐蚀、耐高温的特性，将其作为添加剂加入电解液中，这些弥散质点会对膜层的结构和性能产生影响，故本文在硅铝复合电解液中加入纳米SiC，研究纳米SiC对镁合金微弧氧化陶瓷膜膜层的微观形貌、物相组成、耐磨耐蚀性的影响。 镁合金微弧氧化实验材料及膜层制备 1.试验材料 本实验所用材料为压铸AM50镁合金，其化学成分见表2.1所示。 表2.1 AM50镁合金的成分（Wt.%） Al Mn Zn Si Cu Ni Fe Mg 4.40-5.50 0.26-0.60 ≤0.22 ≤0.01 ≤0.01 ≤0.002 ≤0.004 余量 药品化学式 密度（体积分数） 质量（体积） NaSiO3 15g/L 75g C6H5Na3O7 7g/L 35g NaAlO2 9g/L 45g C3H8O3 5ml/L 25L Na2B4O7 2g/L 10g NaOH 3g/L 15g 超声波清洗器oxford公司生产的CMI233涡流测厚仪JSM-6510LA扫描电镜chi660d电化学工作站，UMT-2型摩擦磨损试验机等设备。 镁合金微弧氧化膜层制备 （1）试样前处理 先用试样切割机将镁合金割规则长方体，然后用600#、800#、1200#型号的SiC砂纸分别将试样表面逐级打磨致划痕方向一致，接着放入50℃的无水乙醇中利用超声波清洗器清洗10min左右，最后用去离子水冲洗，吹风机冷风吹干备用。 根据实验的具体步骤，将称量好的化学试剂依次加入到装有一定量去离子水的烧杯中用玻璃棒不断搅拌使其充分溶解。在添加药品的过程中，注意对于彼此互相反应的药品需要待一种药品充分溶解后再加入另一种药品。当电解质完全解后，添加去离子水至所需浓度试样表面通过打螺纹孔与铜丝相连，悬浮于电解液中，试样底部不能与电解槽接触，夹具与铜丝连接点保持紧密接触，夹具其余部分需进行绝缘处理。将夹具和电解槽分别连接电源的两极，进行微弧氧化。输入预定的控制参数A/dm2，负向电流密度为18A/dm2，频率为520Hz，正占空比为38%，负占空比为30%，氧化时间为15min，接通电源，进行5组试样的制备。分别观察实验现象并记录反应过程中电压随时间的变化。微弧氧化处理过程中通过循环水冷却电解液，使其温度保持在℃左右。待试样反应到所需时间，关闭电源，取出试样。 将经过微弧氧化处理去离子水清洗，接着冷风吹干，待编号结束后装入试样袋，以便观察检测用。采用oxford公司生产的CMI233涡流测厚仪测量膜层的厚度。为了得到较准确的统计数据，在每个试样上下两表面各取10个点进行测量，取平均值作为每个试样膜层的最终厚度。 图3.1微弧氧化膜层厚度 图3.1给出了膜层的厚度值与溶液中碳化硅的添加量之间的关系图，从图中可以看出随着溶液中碳化硅含量的增加，膜层的厚度值逐渐增加，但总体来说膜层厚度值相差不大，其中最厚膜层与最薄膜层之间的厚度值只相差几微米。这是由于添加的SiC颗粒是纳米级的，到膜层表面，也没有很明显的提高微弧氧化膜层的厚度值 图3.2微弧氧化膜层表面微观形貌 (a)SiC 0g/L;(b) SiC 2g/L;(c) SiC 4g/L;(d) SiC 6g/L; (e)SiC 8g/L 图3.2给出了不同SiC浓度下的制得膜层表面微观形貌。从图3.2(a)可看到膜层表面分布许多放电孔洞，孔洞周围堆积着类似火山喷射状的熔融物，随着溶液中SiC的添加，膜层表面的微孔数逐渐减小，但粗糙度增加（如图(d) (e)）。这是因为在微弧放电过程中会产生瞬时的高温高压，这部分高温高压会使镁合金基体与