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第 14 卷第 6 期 粉末冶金材料科学与工程 2009 年 12 月 Vol.14 No.6 Materials Science and Engineering of Powder Metallurgy Dec. 2009 化学气相沉积制备粉体材料的原理及研究进展 刘志宏，张淑英，刘智勇，李玉虎，王 娟 ( 中南大学 冶金科学与工程学院，长沙 410083) 摘 要：采用化学气相沉积法(chemical vapor deposition，简称 CVD)不仅可以制备金属粉末，也可以制备氧化物、 碳化物、氮化物等化合物粉体材料。该法是以挥发性的金属卤化物、氢化物或有机金属化合物等物质的蒸气为原 料，通过化学气相反应合成所需粉末，因其制备的粉末纯度高，比表面积大，结晶度高，粒径分布均匀、可控， 在粉体材料制备方面的应用日趋广泛。该文主要介绍 CVD 技术制