I-lineStepper對準效率與曝光平台的關係.pdfVIP

奈 米 通 訊 I-line Stepper對準效率與曝光平台的關係 陳俊淇、范瑞雲、柯富祥 國家奈米元件實驗室 i n t e r f e r o m e t e r )組成，光開關感知器以平台驅 一、前言 動到特定位置，會遮斷光而判斷平台之相對 現行微影製程所使用的曝光機台主要是 歸零位置( O r i g i n )和極限位置( L i m i t ) ，而雷射 由光學投影系統及X - Y曝光平台所構成的， 干涉儀則是以雷射光與平台上條狀鏡組 ( B a r 光學投影系統決定了曝光機台對阻劑層的解 m i r r o r )其反射光因光程差產生干涉之條紋來 析極限，而X - Y平台則影響機台對準時的相 計算平台行進和偏轉的即時位置；氦氖雷射 關參數，進一步影響產品之產能和良率。目 光以分光器分成三道光，分別導至X軸、Y軸 前高數值孔徑(high NA)與短波長（達D U V範 和θ角之雷射頭，每道光都會跟平台上之條 圍）的步進機，已經可以將線寬推進至 1 0 0 狀鏡組反射光產生干涉，經由計算可準確得 奈米以下的尺寸，但伴隨而來的問題，是挑 知雷射頭和平台的相對位置（參考圖一）； 戰在 1 0 0 n m線寬下的對準極限( 3 σ= 1 0 n m ) 。 圖中分光鏡(beam splitter)將雷射頭的光分至 在先進曝光機台中，曝光平台的步進準確性 三個干涉儀，干涉儀利用入射線與經由條狀 (Stepping Accuracy) 、等 距 性 ( S t e p p i n g 鏡組(bar mirror) 的光因為光程差的不同，產 S c a l i n g ) 、再現性(Stepping Repeatability) 、旋 生干涉，干涉而得的光利用光纖導入 P C B版 轉補正(Rotation Compensation) 、傾斜補正 中進行量測和計算。整個平台移動座標系統 ( Tilt Compensation)等項目，都有明確的規範 和範圍則在圖二中表示； X 軸運動範圍在± 和檢驗方式。本文將對微影機台中各項 X - Y 11 5 m m之間， Y 軸運動範圍在 - 1 9 0 m m 至 S t a g e誤差所造成的影響加以說明，並解說形 + 11 5 m m之間，相對歸零位置 ( O r i g i n )在( - 成的原因與驗證方法，期使讀者對於步進機 9 . 5 ，- 1 6 5 )處。 價格之高昂有所理解。 三、X-Y Stage誤差的影響 二、X-Y Stage系統簡介 X - Y平台係由上述的複雜驅動和定位系 曝光平台為一氣浮式(Air Bearing)平台， 統控制，變因極多，其主要誤差來源為雷射 是利用氣浮系統和線性馬達在X 、Y軸和θ- Z 干涉儀與平台上幾何角度的微小誤差，造成 軸運動以達到高速、高準確性的晶圓定位和 干涉計算結果的不準度，一般稱之為 A B B E 傳輸，其包含以下兩個系統，( 1 )驅動系統， 參數，而在