CVD金刚石膜的热化学抛光技术.pdfVIP

第38卷 第6期 人 X- 晶 体 学 报 Vol_38 No．6 2009年 l2月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS December．20o9 CVD金刚石膜的热化学抛光技术 黄树涛，周 丽，焦可茹，许立福 (沈阳理工大学机械工程学院，沈阳110168) 摘要：金刚石膜的抛光技术 目前已成为影响金冈4石膜推广应用的关键技术之一。近年来开发的各种金刚石膜抛光 技术都有其各 自的优缺点和局限性。基于碳原子扩散的金刚石膜热化学抛光技术因抛光质量好、效率较高、机械 损伤小等优点，而具有发展前景。但 目前开发的将抛光盘整体加热至高温的热化学抛光方法 ，存在设备运行复杂、 抛光加工成本高等问题。本文综合论述了金刚石膜热化学抛光技术的发展、特点及不同因素对金刚石膜热化学抛 光的影响，在此基础上提出了一种稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光新方法。运用扩散理论分析了抛光 温度对金刚石膜理论去除率的影响，所得结果与实验较符合。本文提出的超高速抛光方法具有设备简单、可用于 金刚石膜的精密抛光等优点。 关键词：金刚石膜；热化学抛光；扩散；超高速抛光 中图分类号：TG175 文献标识码：A 文章编号：1000-985X(2009)06—1456-07 ThermochemicalPolishingTechniquesofCVD DiamondFilms HUANGShu—tao，ZHOULi，JIAOKe—rlz，XULi-fu (SchoolofMechanicalEngineering，ShenyangLigongUniversity，Shenyang110168，China) (Received16February2009，accepted26几M 2009) Abstract：Thepolishing technologyofdiamond filmshasbecome one ofthe key technologiesforthe popularizationand application ofdiamondfilms．In recentyears，anumberofalternativepolishing techniquesof diamond filmshave been reported，and each having technologicaladvantages and disadvantages．Thethermochemicalpolishingtechnoloyg basedonthediffusionofcarbonatomshasgood prospectduetoitssuperiorproperties，e．g．excellentpolishingquality，high efficiency andvery small mechanicaldamage．Butuptonow，thethermochemiacalpolishingmethod，inwhichthepolishingplate isheatedtohightemperature，eitherneedcomplicatedapparatusorthepolishingprocessisverycostly． Inthispaper，thedevelopmentandcharacteristicsofthermochemicalpolishingtechniqueswerereviewed， andtheeffectsofdifferentfactorson thermochemicalpolishing ofdiamond filmswerealsoreviewed． Finally，anew super—highspeedpolishingmethodofdiamondfilmshasbeenpro