热丝法制备纳米晶硅薄膜结构及沉积机制与研究.pdfVIP

第 46 卷 第 10 期 1997 年 10 月 物 　理 　学 　报 Vol. 46 ,No. 10 ,October ,1997 ( ) 97/ 46 10 / 201508 ACTA PHYSICA SIN ICA 1997 Chin. Phys. Soc. 热丝法制备纳米晶硅薄膜结构及 沉积机制的研究 陈　国　郭晓旭 　朱美芳 　孙景兰 　许怀哲 　韩一琴 ( 中国科学技术大学研究生院物理系 ,北京 　100039 ;半导体超晶格国家重点实验室 ,北京 　100084) ( 1996 年 11 月 5 日收到 ;1997 年 3 月 28 日收到修改稿) 　　用热丝法制备了纳米晶硅薄膜. 通过 Raman 散射谱及 X 射线谱 ,系统地研究了沉积气压 Pg 、高 H2 稀释及衬底与钨丝之间距离对沉积速率 、纳米硅薄膜的形成和结构等的影响. 计算 了沉积过程中的温度场分布. 讨论了沉积过程中反应基元的输运和相关的气相反应 , 以及 H 在薄膜生长中的作用 , 由此分析了沉