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Mevva源离子注入机大批量注入均匀性研究 吴先映张孝吉张荟星张胜基率强 (北京师范大学低能核物理研究所，射线束技术与材料改性教育部重点实验整) 1引言 离予注入材料表面改性是一转独具特色秘缀有发展莉途蜘材料表颡处理技术，已经在许 多精密、关键和高附加值的工模具和零部件的实际应用中取得了明显的进展…。3I。有些已经 在产业部门中得到推广应用，改性效聚十分明最，已被采用为常规处理工苞。由于Mevva离 子源其芎隶流强、离子种类多、缝度离、电荷态高、}|}蠡电磁高娃及多iL丈面积}l}驽的特点， Mevva强波金属离予注入被誉为毅一代的藤子注入技术””。它列于离子注入末|辩表嚣改性研 究与应用已经并正在发挥重要而深远的影响。大家知道，一种高新技术的推广应用主要取决 子注入援术鳇成本，提毒注入效率是该技术进入工蝮生产的前提。为诧，我释j在“863”许期 敬资助F，一方短研制隶滚更强、题积更大的Mevva离子源注入规，另一寿蘸觋究更存效利 用Mcvva离子柬的方法，以实现低成本离子注入的目的。 2 Mevva IIA-H溅离子注入橇篱会 2+l蘩氍 该项硬究在我们现有的MEVVAIIA—H源强滚金煌离子注入枫上遴杼。该机出