电子束缩小投影光刻掩模研究论文.pdfVIP

兰坐±』坚一一 苎±生全璺皇±查：查三查：垄三查芏查±全 !型：苎竺 电子束缩小投影光刻掩模研究 杨清华1，叶甜春1，李兵1，刘明1，陈宝钦1，赵伶俐1 陈大鹏1，胥兴才1，吴桂君2，彭开武2，张福安2 (1中国科学院微电子中心，北京100010；2中国科学院电工研究所，北京100080) with AngularLimitation 摘要：本文作者对电子柬散射角限制投影光刻(SCALPEL--Scattering Electron Projection 模制作工艺，摸索出一套比较稳定的工艺条件，并且对掩模的透过率和反差以及绝缘薄膜的 ‘ 电荷累积问题(SiNx薄膜的放电现象)进行了探索和实验研究。