氢化纳米硅薄膜中氢键合特征及其能带结构分析.pdfVIP

第 55 卷 第 4 期 2006 年 4 月 物 　理 　学 　报 Vol. 55 ,No. 4 ,April ,2006 ( ) 10003290200655 04 193606 ACTA PHYSICA SINICA 2006 Chin. Phys. Soc. 氢化纳米硅薄膜中氢的键合特征及其能带结构分析 于 　威 　张 　立 　王保柱 　路万兵 　王利伟 　傅广生 (河北大学物理科学与技术学院 ,保定 　071002) (2005 年 5 月 27 日收到 ;2005 年 12 月 12 日收到修改稿) 　　对氢化纳米硅薄膜中氢的键合特征和薄膜能带结构之间的关系进行了研究. 所用样品采用螺旋波等离子体化 学气相沉积技术制备 ,利用 Raman 散射 、红外吸收和光学吸收技术对薄膜的微观结构 、氢的键合特征以及能带结构 特性进行了分析. Raman