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材料研究方法 考试大纲 1、光学显微分析技术：晶体光学基础、偏光显微镜下的光学显微分析技术及其应 用，包括晶体中的光学特性、光率体的分类及应用、单偏光与正交偏光下的晶体光 学性质、正交偏光下的干涉现象及光率体性质鉴定、晶体光学与轴性的鉴定、光学 显微分析的应用等。 2、X射线衍射分析：包括X射线的产生及性质、X射线与物质之间的相互作用、X射 线衍射及布拉格方程、X射线衍射分析方法、粉末衍射定性分析、X射线衍射分析的 应用等。 3、电子显微分析：透射电子显微镜、扫描电子显微镜、电子探针，包括电子与物 质的相互作用、透射电镜的成像原理、衬度原理与样品的制备、扫描电镜的原理及 性能特点、扫描电镜与透射电镜的应用、波谱仪与能谱仪等。 4、热分析技术：差热分析、示差扫描量热分析、热重分析、热膨胀分析，包括热 分析技术的原理、差热分析与示差扫描量热分析的特点、差热分析与热重分析的影 响因素、热分析技术的应用、热分析联用技术及综合热分析、DTA和DSC的区别、 理解如何通过热分析曲线确定高聚物成型和处理温度等。 5、光谱分析：紫外光谱、红外光谱、激光拉曼光谱，包括光谱分析的基本原理、 紫外光谱谱带的产生及种类、分子震动形式及红外光谱的产生条件、红外光谱谱带 强度及位置影响因素、拉曼光谱的基本概念及特点、光谱分析技术的应用、助色团 和生色团的概念、红外光谱和拉曼光谱的异同等。 6、核磁共振分析：核磁共振的基本原理、弛豫、质子的化学位移、自旋偶合、自 旋分裂、图谱的解释及其在材料分析中的应用。 7、质谱分析：质谱分析的基本原理、质谱仪的主要技术指标、质谱定性分析及图 谱解析等。 8、材料测试分析的种类和意义、材料测试分析的综合应用等。 考试题型： 论述题、计算题等。 课后习题答案 §2-7．平行莫来石（斜方）斜方柱面（110）取一切面测得最大折射率为1.654，垂直斜方 柱面另取一切面（001）面测得其折射率变化在1.644-1.642 之间。已知光轴面//（010），试 绘出其光率体并写出最大双折射率、光性符号、光性方位。 答：根据题意：Ng=1.654，Nm=1.644，Np=1.642； 由于光轴面Ap //（010），即NgNp //（010），则Nm //b； 因为Ng 在（110）面，故Ng //c； 因：Ng-Np=0.012， Ng-Nm=0.01gt;Nm-Np=0.002，则为正光性 则光性方位：Ng //c，Nm //b，Np //a §2-8．普通辉石为正光性晶体，在正交偏光下其最高干涉色为二级黄（R＝880nm），⊥Bxa 切面具有一级亮灰干涉色（R＝210nm），设 Ng-Nm=0.019，求薄片厚度。 答：对正光性光率体： 最高干涉色为NgNp 切面：880×10-6=d(Ng-Np) 垂直Bxa 切面为NmNp 切面：210×10-6=d(Nm-Np) 因此：d(Ng-Nm)=880×10-6-210×10-6 则：d=0.035mm §2-9．设橄榄石晶体薄片厚度0.03mm，Ng=1.689, Nm=1.670, Np=1.654，其垂直Bxa 切面和垂直Bxo 切面上能见到什么样的干涉色（光程差）？平行光轴面的切面又具有什么样的干涉色（光程差）？ 答：由于 Ng-Nm=0.019gt;Nm-Np=0.016，故为二轴晶正光性； 则：⊥Bxa 切面：NmNp 面：R=480nm ⊥Bxo 切面：NgNm 面：R=570nm //Ap 面：NgNp 面：R=1050nm §3-1．X 射线与物质相互作用是什么？ 答：散射 X 射线（相干、非相干散射）； 电子（反冲电子、俄歇电子、光电子、荧光 X 射线）； 透过射线； 热能 §3-5．试述X 射线粉末衍射法物相分析过程及其注意的问题。 答：物相分析过程： 首先用粉末照相法或粉末衍射仪法获取被测试样物相的衍射花样或图谱。 通过对所获衍射图谱或花样的分析和计算，获得各衍射线条的2θ、d 值及相对强度 大小I/I1。 使用检索手册，查寻物相 PDF 卡片号。 若是多物相分析，则在上一步完成后，对剩余的衍射线重新根据相对强度排序，重 复上述步骤，直至全部衍射线能基本得到解释。 应注意的问题： 一般在对试样分析前，应尽可能详细地了解样品的来源、化学成分、工艺状况，仔 细观察其外形、颜色等性质，为其物相分析的检索工作提供线索。 尽可能地根据试样的各种性能，在许可的条件下将其分离成单一物相后进行衍射分 析。 由于试样为多物相化合物，为尽可能地避免衍射线的重叠，应提高粉末照相或衍射 仪的分辨率。 对于数据 d 值，由于检索主要利用该数据，因此处理时精度要求高，而且在检索时， 只允许小数点后第二位才能出现偏差。 特别要重视低角度区域的衍射实验数据，因为在低角度区域，衍射所对