集群磁流变效应微磨头平面研抛加工参数的研究.pdfVIP

集群磁流变效应微磨头平面研抛加工参数研究∗ 汤爱军，阎秋生，路家斌，高伟强 广东工业大学机电工程学院，广州（510090 ） E-mail ：tang584@163.com 摘 要：在集群磁流变效应微磨头平面研抛加工技术初步研究的基础上，实验研究了磁感应 强度、研抛压力、加工速度及加工时间等参数对材料去除率和表面粗糙度的影响规律，提出 了集群磁流变效应微磨头平面研抛加工的材料去除模型，并得到了一定条件下的优化工艺参 数。 关键词：集群微磨头，磁流变效应，平面研抛，材料去除模型 中图分类号：TG356.28; TH161 1. 引言 随着光电技术的发展，超光滑光学表面加工的需求越来越多，如光学镜片、显示视窗等， 这些由光学玻璃、树脂等材料制成的光学元件要达到良好的光学性能，其表面就必须达到一 定的表面精度和面形精度，研磨抛光是最终得到超光滑表面的有效加工方法。 磁流变抛光技术是W.I. Kordonski 、I.V. Prokhorov及其合作者于上世纪90年代初将电磁 学、流体动力学和分析化学相结合而提出一种新型的光学零件加工方法[1]，随后，美国 Rochester大学的光学加工中心 (COM) 、QED公司等在磁流变抛光机理及其应用方面作了大 量的研究，推动了磁流变抛光技术的发展[2-3] 。基于磁流变效应，作者提出了利用磁流变液 作为砂轮结合剂将混入磨料微粒约束固结、即效形成动态微磨头微细加工硬脆材料的工艺方 [4] 法，并对磁流变效应微磨头的加工性能进行了研究 。在此基础上，针对传统游离磨料研抛 方法（如化学机械抛光和机械抛光）存在的缺陷，将磁流变效应微磨头有规律地排列形成集 群磁流变效应微磨头研磨盘，发展了一种全新的平面研抛加工技术，对集群磁流变效应微磨 头平面研抛盘进行了设计优化，并进行了初步实验研究，验证了这一平面研抛新技术的可行 [5] 性和有效性 。 在前期工作的基础上，本文进行了集群磁流变效应微磨头平面研抛加工参数（磁感应强 度、研抛压力、加工速度及加工时间等）的试验研究，考察了这些参数对集群磁流变效应微 磨头平面研抛加工效果的影响规律，并进行了参数优化。 2. 实验装置和实验条件 集群磁流变效应微磨头平面研抛加工装置是在双面研磨抛光机2M4S 的基础上改造而成 （图1）。通过电磁场仿真及试验优化，集群磁流变效应微磨头平面研磨盘的结构如图2所示 [5]，上研磨盘的材料选用具有良好的耐磨性、嵌砂性和可加工性的铸铁，在盘底加工出互相 垂直的1mm的细槽，形成10×10小方格，盘面添加一定数量的圆柱形永磁铁，通过改变圆柱 形永磁铁的数量得到研磨盘加工面上不同的磁感应强度。由于只进行光学玻璃的单面抛光， 故下研磨盘未作改动。在圆柱形永磁铁的作用下，磁流变液在上研磨盘的小方格处形成微磨 头，这些微磨头集群形成具有一定刚度、柔性、变化的研磨抛光垫，在研抛力、磁场力和颗 粒之间的碰撞作用下磨粒会在抛光垫中不停变化移动，加强了研磨效果，其研抛性能介于固 ∗本课题得到国家自然科学基金、高等学校博士点学科专项科研基金（20060562005 ）和广州市科 技计划项目(2005Z3-D0021)资助。 - 1 - 结磨料和游离磨料研磨抛光之间。 永磁体 研磨盘 研磨盘槽缝 研磨粉 羰基铁粉 图1