氧化钒多孔硅硅结构微观形貌、纳米力学及温敏特性.pdfVIP

下载本文档

3
0
约2.75万字
约 6页
2017-08-31 发布于安徽
举报
版权申诉

氧化钒多孔硅硅结构微观形貌、纳米力学及温敏特性.pdf

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao) June A cta Phys. Chim. Sin., 2008, 24(6) ：1017-1022 1017 [Article] 氧化钒/多孔硅/硅结构的微观形貌、纳米力学及温敏特性海波胡明梁继然张绪瑞刘志刚 (天津大学电子信息工程学院, 天津 300072) 摘要：采用电化学腐蚀法在硅基片表面形成多孔硅, 利用直流对靶反应磁控溅射方法在不同电流密度条件下制备的多孔硅样品表面上溅射沉积了VO 薄膜, 获得了氧化钒/多孔硅/硅(VO /PS/Si)结构. 采用场发射扫描电镜 x x (FESEM)观测多孔硅及VO /PS/Si结构的微观形貌, 采用纳米压痕仪器测量VO /PS/Si结构的纳米力学特 , 通过 x x 电阻-功率曲线分析研究其温度敏感特 . 实验结果表明, 在40 和80 mA ·cm-2 电流密度下制备多孔硅的平均孔径分别为18 和24 nm, 用显微拉曼光谱法(MRS)测量其热导率分别为3.282 和1.278 kW ·K-1; VO /PS/Si 结构的 x 9 9 -1 电阻随功率变化的平均速率分别为60伊10 和100伊10 赘·W , VO /PS/Si 结构的显微硬度分别为 1.917 和0.928 x GPa. 实验结果表明, 多孔硅的微观形貌对VO /PS/Si 结构的纳米力学及温敏特性有很大的影响, 大孔隙率多孔 x 硅基底上制备的VO /PS/Si 结构比小孔隙率多孔硅基底上制备的具有更高的温度灵敏度, 但其机械稳定性也随 x 之下降. 关键词：氧化钒; 多孔硅; 微观结构; 纳米力学; 温敏特