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文献综述 DLC薄膜的制备和检测技术综述 学 院 光电学院 学 科 光学工程 学 号 1101210021 姓 名 薛俊 2013年 6月 18日 前言 20世纪70年代初,Aisenberg[1]和E.Gspenc[2]分别次采用离子束沉积技术(IBD)和碳气相离子束增强沉积(IBED)技术制备了绝缘碳膜，命名该膜为DLC[1]。20世纪70年代末，前苏联研制的DLC膜的硬度已经达到15000(维氏硬度)[3]。DLC薄膜具有生产工艺简单，性能优良等特点。20世纪80年代中期，在世界范围内掀起了研究、制备、开发和应用DLC膜的热潮。厚度为100μm、表面粗糙度10nm的DLC膜己经被美国通用原子公司（GA）利用PECVD制造出来[3]。我国在制备DLC膜研究、应用方面也去得了长足的进展，不过与发达国家相比，差距还是存在的。现在DLC膜还有很多问题存在争议或尚未解决。这也问题严重制约了DLC膜的研究发展，现在，随着DLC制备技术的日益完善以及社会对DLC膜的需求量的增加，DLC膜的应用研究价值也日益凸显。 1 DLC薄膜概况 1971年德国的Aisenberg 采用碳离子束首次制备出了具有金刚石特征的非晶态碳膜,由