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第26卷第3期 量子 电 子学报 V01．26No．3 CHINESEJOURNALOF 2009 2009年5月 QUANTUMELECTRONICSMay DOI：10．3069／j．issn．1007-5461．2009．03．020 Ep,品lJ电路板激光投影成像照明系统均匀性分析 裴文彦-，周金运。，梁国均2，林清华： (1广东工业大学实验教学部， 广东广州 510006； 2广东工业大学物理与光电工程学院， 广东 广州 510006) 摘 要：针对351nm波长的XeF准分子激光器，自行设计了用于高精度、高产率、大面积且常规抗蚀剂曝 光的印刷电路板(PCB)激光投影成像照明系统。根据准分子激光的部分相干平顶高斯光束(PCFGB)理论模 型，对微透镜阵列器(MLA)均柬的衍射特性进行了理论分析．由PCFGB分布函数、稳定光强输出的衍射角 和菲涅耳一基尔霍夫衍射积分公式。定量分析衍射效应对MLA均束的影响。理论计算表明，微透镜边缘发生菲 涅耳衍射和微透镜产生的多光束干涉都能引起光振幅调制，只不过衍射产生的尖峰更明显地出现在光束边缘． 同时，由数值积分得到的PCFGB曲线，发现9×9 MLA均柬器既能保证多个微透镜产生光束叠加的均匀性， 又最大程度地减少了衍射和多光束干涉效应．通过采取加正六边形光阑的方法，不仅能满足大面积无缝扫描光 刻的需要，而且能剪裁由衍射引起的光束边缘尖峰．由ZEMAX光学设计软件模拟其效果，显示其加工窗不大 于-t-2％． 关键词：激光技术；均束器；激光投影成像光刻；XeF准分子激光；印刷电路板；加工窗 中图分类号：TN248 文献标识码：A． 文章编号t 1007-5461(2009)03-0360-06 of theilluminationforPCBlaser Uniformityanalysis system projectionimage PEl Wen-yahl，zHoUJin-yun2，。LIANGGuoqtlrl2，LIN Qing-hua2 of (1ExperimentalTeachingCenter，GuangdongUniversity 510006，China； Technology,Guangzhou 2Schoolof and of PhysicsOptoelectronic Engineering，GuangdongUniversityTechnology, Guangzhou510006，China) Abstract：For351nmXeFexcimer．anilluminationforPCB for laser used re$- system projectionimage high and area conventional