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本征微晶硅薄膜和微晶硅电池制备及特性的研究.pdfVIP

本征微晶硅薄膜和微晶硅电池制备及特性的研究.pdf

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第34卷‘第2期 人 工 晶 体 学 报 v01.34N。.2 至堂堡兰旦 坦婴盟些Q£墨兰堕里曼婴笪旦翌坠坚 .一 :一垒趔!!兰堕 本征微晶硅薄膜和微晶硅电池的 制备及其特性研究 张晓丹,高艳涛,赵颖,朱锋,魏长春,孙 建,耿新华,熊绍珍 (南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津30007l; 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津30007l; 光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津300071) 摘要:本文对VHF.PEcVD制备的本征微晶硅薄膜和电池进行了电学特性和结构特性方面的测试分析研究。电学 测试结果给出制备薄膜的激活能为0.51eV,符合电池对材料的电学参数要求;拉曼散射谱测试结果计算得到样品 效率为5%的微晶硅电池(^c=2lmA/cm2,yoc=0.46V,FF=51%,Area=0.253c一)。 关键词:甚高频等离子体增强化学气相沉积;微晶硅;太阳电池 中图分类号:7Ⅸ514 文献标识码:A Materialsand Fabdcationof Silicon Microcrystalline SiliconSolarCeHsand onTI炝ir Study Properties Z日A^B藏∞一如n,以Dyon~foo,Z黝DM昭,朋U屁昭,聊铂彻g—c矗un, sUN s}啪。;kn J沲n。GENGX讯.hun.xIoNG ofN8llkai ofPh010一electronicsninFilmDevicesaIld Unive瑙ity,Ti柚jin30007l,Chin8; (Institute Technique ofPhoto—electronics码inFilmDevicesaIld KeyLab嘲tory TecIlIliqueof’11舭jin,711肌jin30007l,chim; of Infb咖ation Key‰tory0pto—electIDnic Science锄d‰h肿10盯(N舭kaiUnive瑁畸,TianjinUnivers蚵), of MinistryEducation,Tianjin30007l,China) (胁劫甜18Dc出口2004) andstmctural siliconthinfilmandsolaurceⅡs Abstract:Theelectrical propenies《microcrystauine aIldactive 1000and 鼬ricatedVHF.PECVDwere 0.51eV by studied.Phot

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