氮化硅薄膜力学性能纳米压痕测试与分析.pdfVIP

氮化硅薄膜力学性能的纳米压痕测试与分析 张良昌, 许向东, 吴志明, 蒋亚东, 张辉乐 电子科技大学，成都（610054 ） E-mail ：zcclhl@163.com 摘 要：纳米压入法在薄膜材料力学性能测试领域中有着广泛的应用。本文利用纳米压入技 术对PECVD 氮化硅（SiNx ）薄膜的力学性能进行了测量与分析，通过对加载卸载曲线的分 析，得到了SiNx 薄膜的杨氏模量为226GPa 。此外，本次试验对氧化硅（SiOx ）薄膜、SiNx 与SiOx 薄膜的复合膜也进行了测试。结果表明，薄膜的应力变化导致其杨氏模量随之发生 改变。 关键词：氮化硅 纳米压入 机械性能 薄膜 中图分类号：TB 1．引言 随着微电子机械系统（MEMS ）的快速发展与不断深入，薄膜材料的性能越来越为人们 所重视。薄膜材料的力学性能对产品的设计、制造及可靠性分析具有重要意义。其中，材料 的杨氏模量（E ）倍受关注。 人们对薄膜力学性能的研究早在 19 世纪末已经开始。从那时起，各种测量方法和测量 理论便不断涌现出来，这些方法大致可以分为两类：一类是直接测量方法，它是根据力学量 的定义来测量的方法，如单轴拉伸法[1] ；另一类是间接测量方法，它是通过测量由于力学量 而引起的某些物理性能的改变来计算力学量的方法，如共振频率法[2] [3] 、声表面波法 等。除 [4] [5] [6] 此之外国内外还报道了还有其它测试方法：衬底弯曲法 、微桥法 、鼓泡法等 。 近 10 多年来，纳米压痕技术发展较快。由于试样安装简单、仪器分辨率高、作用区域 小、可以直接在器件上测量，纳米压入法成为现阶段广泛使用的薄膜材料力学性能测量方法 [7,8] 。 另一方面，氮化硅因其特殊的光学、电学、机械、化学惰性等性能，广泛被应用做减反 射膜、钝化层、支撑层及介电薄膜。而氮化硅薄膜的力学性能将密切影响材料质量与器件性 能，是一个关键性指标。目前为止，许多文献一般只报道SiNx 薄膜应力、或杨氏模量的单 独测量结果，这种现象影响到人们对相关材料的全面、准确评价。本文通过膜层结构的改变 促使薄膜的力学性能发生变化，同时，还对相关薄膜的应力和杨氏模量进行了综合评估。 2. 杨氏模量的测量原理 在压头压入材料时，弹性和塑性形变同时发生，因此在卸载压头的过程中，塑性形变无 法还原，这将有利于材料力学性能的测量。 图 1 为典型的加载卸载（P-h ）曲线图。图中Pt 代表最大载荷，ht 是最大压入深度，S 是接触刚度（卸载曲线的初始斜率），hc 是接触深度。 - 1 - 图1 典型的纳米压痕加载卸载曲线 对于载荷位移曲线进行弹性模量的测试工作始于20 世记70 年代初期，Bulychev 等对 此进行了深入的研究，得到有效弹性模量计算公式 ∗ π S E （1） 2β A 式中β位于压头形状有关的参数，对于berkovich 压头β ＝1.034。 由图 1 的曲线计算所得到的有效弹性模量数据，是考虑了压头与样品均发生了弹性形 变，有效弹性模量与样品的弹性模量之间的关系由下式给出 1 1−ν2 1−ν2 + i （2 ） E ∗ E E