电弧离子镀(Ti,Al)N复合薄膜结构和性能的研究.pdfVIP

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No.1 第39卷 第1划 仓属予跋 Volt39 ACTAMEqALLURGICASINICA .]an 2003 55—60 5j PP 2003年1月 6U页 电弧离子镀(Ti,A1)N复合薄膜的结构和性能研究 李明升 王福会 (巾国科学院金属研究所生礴腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016) 王铁钢 宫骏 剥、超 闻立时 1 (巾国科学院金属研究所,沈阳I0010) 摘 要 析表叫,z在00.5之怕』时,薄瞳是B1型(NaCl)单相结构;z=n64时,同时出现Bl和B4型(ZnS)两种相结构, r≥0.79时,只出现T¨喇结构,随营Al含量的增加,晶格悼数减小,Bt结构的薄膜择优取向由(111)『叫(220)转变力学 性自E测试表明,适肖AJ含量可以提高薄膜的硬度、膜基结台强度及抗軎损性能; nl结卡句(Tj,AJ)N薄膜的氧化实验最明.随 着Al旨址的增加.薄蠛抗氧化性能挂著提高 关键词 电弧离子镀 (Ti,AI)N薄膜,结构变化,力学陀能 中图法分类号TGl74444 文献标识码A 文章编号04l 2一1961(2003)01—055—06 INVESTIGATIoNoFPHASE STRUCTUREANDPERFOR. MANcE FILMsDEPOSITED oF(Ti,A1)N BY ARCIoNPLATING LI Fuhui Mingsheng,WANG State and Key forCorrosion Laboratory 110016 Shenyang WANG GONG Lishi Tiegang Jan,SUNChao、wEN InstiluleofMetalReach、TheChinese of Academy 110016 Sciences,Shenyamg Correspondent.LI O,Ccn Mingshcng,Tel:(024)e3915875,E—maih mshli(c。icpmsyb SurportedNationalNnturalScienceFoundation by ofChina(N inrevised received2002—03~18 form2002—07—04 Manuscript with fihns differentA1contentswere ult ABSTRACT(Ti.A1)N deposited1CrllNi2W2MoVstaillless steeJarcion the As aluminumcontentincreased、thefihn by

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