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《 》 :
半导体光电 年 月第 卷第 期 陈金菊等 用非极性 外延膜的制备技术进展
2011 8 32 4 LED GaN
动态综述
LED用非极性GaN外延膜的制备技术进展
1 2 1
, ,
陈金菊 王步冉 邓 宏
( , ; , )
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都 西南电子设备研究所 成都
1. 610054 2. 610036
: 。 ,
摘 要 是实现白光 的关键材料 外延膜通常沿极性 轴生长 基于极性
GaN LED GaN c
,
GaN 的LED有源层量子阱中由于强内建电场的存在而导致器件发光效率降低 而沿非极性面生
。
长的GaN 外延膜可以改善或消除极化效应导致的辐射复合效率降低和发光波长蓝移等问题 文
, ,
章总结了非极性 GaN 外延膜的制备技术及研究进展 包括平面外延技术和横向外延过生长技术
、
指出开发非极性GaN 自支撑衬底 发展非极性 GaN 的横向外延生长技术是制备低位错密度非极
性GaN 的研究方向。
: ; ; ;
关键词 LED 非极性GaN 横向外延过生长 位错
中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( )
TN383.1 A 1001-5868201104-0449-06
ProressintheE itaxialGrowthofNon olarGaN forLEDs
g p p
1 2 1
, ,
CHENJinu WANG Buran DENG Hon
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