压烧结法制备ITO磁控溅射靶材工艺的研究.pdfVIP

第 卷第 期 稀有金属与硬质合金 Y;? R % Z R! % ! 年 月 5 # # % 5 XDB O 7D?G D 9 * S 7 9 *DBFE9 G W R 5 # # % ·试验与研究· 冷等静压 烧结法制备 磁控溅射 ! #$ 靶 材 的 工 艺 研 究 李 晶，陈世柱，李芝华 （中南大学材料科学与工程学院，湖南 长沙!##$%） 摘 要：采用冷等静压 烧结法制备了 磁控溅射靶材。该工艺用化学沉淀法制备 复合粉末，通过冷等静压 ’