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平台HR 引领HR实务 成就精彩人生 离子注入设备原理与应用 曹鸣 黄其煜 上海交通大学微电子学院 在现代的半导体制造过程中运用 了多种先进的工艺技术，离子注入 就是其中的一种。它的作用主要是 向硅衬底中注入一定数量和能量的杂 质，以改变硅衬底中特定区域的电 学性能。因为离子注入技术在实际 的应用中，具有极高的工艺可重复 性和对掺杂浓度和深度优良的控制能 力，它已经成为了半导体制造过程 中重要的工艺技术。 工艺分类 离子注入设备是半导体制造中重 要的工艺设备。离子注入机按照使 用工艺的不同，根据产生的离子能 量和离子束电流大小可分为高能量 （High Energy），高电流 （High Current）和中电流 （Medium Current）三种： 1.高能量注入机所得到的离子束 具有较高能量。一般单价离子在通过 于除深井掺杂和源漏掺杂以外几乎所