高分子共混物形态迟滞研究.docVIP

目 录 第一章 前言 1 第二章 实验部分 4 2.1 实验原料 4 2.2 实验设备 4 2.3 实验方法及步骤 5 第三章 结果与讨论 6 3.1 光学剪切系统研究PIB/PDMS共混物形态迟滞现象 6 3.1.1 RN与预测模型的对比 7 3.1.2 RV与预测模型的对比 7 3.2 流变法研究PIB/PDMS共混物形态迟滞现象 8 3.3 纳米SiO2粒子对PIB/PDMS形态迟滞的影响 12 第三章 结论 16 致谢 18 附录一 综述 19 附录二 翻译 27 纳米SiO2填充PIB/PDMS共混体系形态迟滞现象的研究 高分子材料加工工程 作者：刘顿 指导老师：黄亚江 摘要：本实验用光学剪切系统和流变法研究了不相容PIB/PDMS共混物的形态迟滞现象以及添加纳米SiO2粒子的影响。通过数据分析及绘成函数图表，并与相应的理论模型进行对比，实验得到与文献报道一样的形态迟滞区域，在这个区域内，改变剪切速率，分散相尺寸大小没有明显的变化。加入亲水性纳米硅粒子后，形态迟滞区受破碎线位置的改变的影响而变大，而加入疏水性纳米硅粒子后，形态迟滞区受凝聚线位置的改变的影响同样出现变大的情况。经过进一步理论分析，推测这种变化可能与纳米硅粒子在PIB/PDMS共混物中的分布有关。 关键词：纳米二氧化硅（SiO2）PIB PDMS 形态迟滞 Morphological hy