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- 2017-08-24 发布于广东
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MOCVD生长的GaN:Mg外延膜的光电性质
第29卷第1期
2008年1月
半导体
JoURNALoFSEMICoNDUCToRS
VO1.29NO.1
Jan.,2008
OpticalandElectricalPropertiesofGaN:MgGrownbyMOCVD
WangLili,ZhangShuming,YangHui,andLiangJunwu
(InstituteofSemiconductors,ChineseAcademyofSciences,Beifing100083,China)
Abstract:Mg—dopedGaNlayerspreparedbymetalorganicchemicalvapordepositionwereannealedattemperaturesbe—
tween550and950℃.Roomtemperature(RT)Hallandphotoluminescence(PL)spectroscopymeasurementswereper.
formedontheas.grownandannealedsamples.Afterannealingat850℃.ahighholeconcentrationof8×10cm一0anda
resistivityof0.8Q?cmareobtained.Twodominantdefect.r
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