现代陶瓷工艺学 全套课件.ppt

现代陶瓷工艺学 绪 论 0.1 普通陶瓷与先进陶瓷 （1）陶瓷定义 （2）陶瓷基本分类 （3）陶瓷的历史发展 0.2 先进陶瓷工艺技术现状 1. 先进陶瓷粉体制备与性能表征及设备 粉体：大量固体粒子的集合系。 粉体的表征： （1）粒子： 一次颗粒、颗粒单体、基本物性 （2）团聚体：粒子+孔隙 颗粒间作用力 （3）粉体集合系： 流动性、变形性 粉体制备方法 先进陶瓷粉体： 通常为0.05~40微米粒径范围的物料体系。 粉体制备方法： 机械粉碎法：（尺寸降低过程） 外力克服内聚力实现表面积增大。 合成法：（构筑过程） 离子、原子、分子经反应、成核—生长、收集、后处理等获得微细粉体。 1.1 粉体的物理性能及其表征 1.1.1 粉体颗粒的表征 1.1.1.1 颗粒的概念 （1）颗粒（一次颗粒、基本颗粒） 无堆积、絮联等的最小单元。 分离的、低气孔率、不可渗透的粒子单体 （2）团聚体 一次颗粒由于表面力或化学键合形成的颗粒。（自发团聚） 表面力→软团聚 化学键合→硬团聚 自发团聚原因： ①分子间范德华力 ②颗粒间静电引力 ③吸附水分的毛细管力 ④颗粒间磁引力 ⑤颗粒表面不平滑引起的机械纠缠力 （3）二次颗粒（假颗粒） 通过某种方式人为制造的粉体团聚粒子。 （4）胶粒 尺寸小于100纳米的胶体颗粒。 1.1.1.2 颗粒的尺寸 粒径： 单个颗粒的直径 粒度： 颗粒群的平均大小（平均粒径） 粒径的定义与表示方式 （1）相当径（球相当径、球当量径） 等体积径DV、等表面积径Ds （2）自由下降径Df （3）Stoke’s径（等沉降速度相当径）Dst 有效径 流体运动方式： 层流、过渡流、湍流（紊流） 流体阻力： 其中：A 迎流面积，ρ流体密度，u颗粒对流体相对速度。 C 阻力系数。C = f（Re）。 雷诺数： 球体颗粒在液体中沉降时雷诺数与阻力系数实验关系曲线 Stoke’s假设： 当速度达极值时，在无限大范围内，粘性流体中沉降的球体颗粒的阻力完全有流体粘滞力决定。 层流沉降速度公式： 当Re<0.2 适用。 （4）显微镜测粒径 光学、SEM、TEM ①马丁径DM（Martin） ②费莱特径DF（Ferret） ③投影面积径Du ④周长径De 1.1.1.3 颗粒分布 颗粒分布： 用于表征多分散体系中颗粒大小组成状况。 单分散体系：粒度一致或近似一致。 多分散体系：粒度有一定分布范围。 表达方式： 粒度分布：累积分布曲线、频度分布曲线 平均粒径：常用的六种平均径 标准偏差：反映分布对平均径的分散度（二次距的平方根） 分布宽度：SPAN=(d90-d50)/d10 偏度：偏离正态分布的程度。（三次距） 累积分布曲线 频率（度）分布曲线 备注：累积分布为频率（度）分布的积分形式。 百分率可按质量、个数、体积等为基准。 平均径 D1 个数平均径 D2 长度平均径 D3 表面积平均径 D4 体积平均径 Ds 平均表面积径 Dv 平均体积径 Dm 最多数量径，对应频率（度）分布曲线最高值。 （众数径、最可几径） D50 中位径，对应累积分布曲线50%处。 G 偏度 正态分布：g=0，即： Dm= D50 =D平均 正偏： g>0，即： Dm<D50 <D平均 负偏： g<0，即： D平均<D50 <Dm 1.1.1.4 粉体粒度测定方法 1.1.1.5 颗粒形貌、结构分析 金相分析、SEM、TEM、STM、AFM