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武汉理工材料科学基础课后答案_第七章.doc
第七章答案
7-1略
7-2浓度差会引 起扩散,扩散是否总是从高浓度处向低浓度处进行?为什么?
解:扩散是由于梯度差所引起的,而浓度差只是梯度差的一种。当另外一种梯度差,比如应力差的影响大于浓度差,扩散则会从低浓度向高浓度进行。
7-3欲使Ca2+在CaO中的扩散直至CaO的熔点(2600℃)时都是非本质扩散,要求三价离子有什么样的浓度?试对你在计算中所做的各种特性值的估计作充分说明。已知CaO肖特基缺陷形成能为6eV。
解:掺杂M3+引起V’’Ca的缺陷反应如下:
当CaO在熔点时,肖特基缺陷的浓度为:
所以欲使Ca2+在CaO中的扩散直至CaO的熔点(2600℃)时都是非本质扩散,M3+的浓度为,即
7-4试根据图 7-32查取:(1)CaO在1145℃和1650℃的扩散系数值;(2)Al2O3在1393℃和1716℃的扩 散系数值;并计算CaO和Al2O3中Ca2+和Al3+的扩散活化能和D0值。
解:由图可知CaO在1145℃和1650℃的扩散系数值分别为,Al2O3在1393℃和1716℃的扩散系数值分别为
根据可得到CaO在1145℃和1650℃的扩散系数的比值为:
,将值代入后可得,Al2O3的计算类推。
7-5已知氢和镍在面心立方铁中的扩散数据为cm2/s和cm2/s,试计算1000℃的扩散系数,并对其差别进行解释。
解:将T=1000℃代入上述方程中可得,同理可知。
原因:与镍原子相比氢原子小得多,更容易在面心立方的铁中通过空隙扩散。
7-6在制造硅半导体器体中,常使硼扩散到硅单晶中,若在1600K温度下,保持硼在硅单晶表面的浓度恒定(恒定源半无限扩散),要求距表面10-3cm深度处硼的浓度是表面浓度的一半,问需要多长时间(已知D1600℃=8×10-12cm2/s;当时,)?
解:此模型可以看作是半无限棒的一维扩散问题,可用高斯误差函数求解。
其中=0,,所以有0.5=,即=0.5,把=10-3cm,D1600℃=8×10-12cm2/s代入得t=s。
7-7 Zn2+在ZnS中扩散时,563℃时的扩散系数为3×10-4cm2/s;450℃时的扩散系数为1.0×10-4cm2/s,求:(1)扩散活化能和D0;(2)750℃时的扩散系数;(3)根据你对结构的了解,请从运动的观点和缺陷的产生来推断活化能的含义;(4)根据ZnS和ZnO相互类似,预测D随硫的分压而变化的关系。
解:(1)参考7-4得=48856J/mol,D0=3×10-15cm2/s;
(2)把T=1023K代入中可得=cm2/s;
7-8实验测得不同温度下碳在钛中的扩散系数分别为2×10-9cm2/s(736℃)、5×10-9cm2/s(782℃)、1.3×10-8cm2/s(838℃)。(1)请判断该实验结果是否符合;(2)请计算扩散活化能,并求出在500℃时碳的扩散系数。
解:(1)设=2×10-9cm2/s,=5×10-9cm2/s,=1.3×10-8cm2/s,=1009K,=1055K,=1111K。将,和,代入并按照7-4所用方法得=2342787J/mol,同理代入,和,得=2342132J/mol。,可以认为该实验符合;(2)由上步可知=2342787J/mol;(3)将T=773K代入得=cm2/s。
7-9在某种材料中,某种粒子的晶界扩散系数与体积扩散系数分别为Dgb=2.00×10-10exp(-19100/RT)cm2/s和Dv=1.00×10-4exp(-38200/RT)cm2/s,试求晶界扩散系数和体积扩散系数分别在什么温度范围内占优势?
解:当晶界扩散系数占优势时有DgbDv,即,所以有T1455.6K;当T1455.6K时体积扩散系数占优势。
7-10假定碳在α-Fe(体心立方)和;γ-Fe(面心立方)中的扩散系数分别为:Dα=0.0079exp[-83600/RT]cm2/s;Dγ=0.21exp[-141284/RT]cm2/s,计算800℃时各自的扩散系数,并解释其差别。
解:将T=1073K代入题中两式分别得Dα1073=cm2/sDγ1073=cm2/s。
原因:扩散介质结构对扩散有很大影响。α-Fe为体心立方,而γ-Fe为面心立方,体心立方较面心立方疏松。结构疏松,扩散阻力小而扩散系数大。
7-11碳、氮、氢在体心立方铁中的扩散活化能分别为84kJ/mol、75kJ/mol和13kJ/mol,试对此差异进行分析和解释。
解:碳、氮、氢的原子半径依次减小,原子半径越小就越更容易在体心立方的铁中通过空隙扩散,扩散活化能相应也就越低。
7-12MgO、CaO、FeO均具NaCl结构,在各晶体中它们的阳离子扩散活化能分别为:Na+在NaCl中为41kcal/mol,Mg2+在MgO中为83kcal/mo
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