先驱体转化法制备SiBNC陶瓷.pdfVIP

第37卷 增刊l 稀有金属材料与工程 、，0I．37，suppI．1 2008年 1月 RAREMEl’ALMJ姐’ERIAI，SANDENGINEERrNG J锄∞ry2008 TiN中间层对CM薄膜摩擦学性能的影响 唐利强1，刘 军1，陈志刚2，吴燕杰1 (1．江苏大学，江苏镇江212013) (2．江苏工业学院，江苏常州213100) 摘要：采用射频反应磁控溅射法在硬质合金衬底上沉积了CM薄膜和CNJ／riN复合薄膜。薄膜的结构和元素成分用傅 里叶变换红外光谱(FTIR)和x射线光电子能谱(xPS)测试。红外吸收光谱说明薄膜中碳、氮原子结合成的化学键 移增大，其中氮碳原子成键多，从而提高了样品的耐磨性能。 关键词：CM薄膜：硬质合金；x光电子能谱；摩擦性能 中图法分类号：0484 文献标识码：A 文章编号：1002．185x(2008)S1．477一04 表1 TiN中间过渡层的工艺参数 1 前 言 7Iablel Thetechnical of lbrT试 parametersdeposiHon middIe 1989年Liu和Cohen【l】从理论上预言可能存在一 l_yer 种硬度与金刚石硬度相比拟的氮化碳材料卢．C3N4，除 此以外，该材料还有许多优异的性能，如较高的硬度、 低的摩擦系数以及优异的化学稳定性，这激发了各国 科学家采用各种方法来合成这种材料。对氮化碳的研 究，不仅具有重大的理论意义，而且具有十分广阔的 应用前景。目前CM薄膜的研究多是以单晶硅或其他 3结果与讨论 一些单晶体为衬底的，由于CM薄膜在这些晶体上易 于生长，故在CM薄膜的沉积工艺、组织结构与性能 3．1 SEM和xRD结果分析 分析等方面取得的进展较大。但这与实际应用还是有 由于材料的结构和形貌与其性质有着密切的关 差距，因为作为耐磨保护薄膜的基体材料主要是硬质 系，我们首先对制备的CN■薄膜表面形貌进行了观 材料，CM薄膜在这些衬底材料上沉积的薄膜制备及 察，其中图1a为衬底材料硬质合金YG8的形貌图， 性能研究鲜见报道。因此，作者选用YG8硬质合金作 图1b为衬底上生长的CN■薄膜的形貌。从图l中可 为衬底材料，制备CM薄膜并研究其摩擦学性能。 以看出硬质合金上沉积的CN，薄膜是表面分布均匀 平整的无定形膜。XRD分析表明薄膜中没有C3N4晶 2样品的制备与实验方法 相存在，薄膜呈非晶态。 3．2 X射线光电子能谱 CM薄膜的生长是在JGP560CⅥ型超高真空多功 能磁控溅射系统中进行的。靶材为高纯石墨 X射线光电子能谱(XPS)是研究薄膜化学组 成及其结构的优选方法。实验采用英国VG公司的 (99．99％)，衬底为YG8硬质合金(wC+8％Co)，表 面进行抛光处理，靶与衬底之间的距离为6cm，溅射 气体为AJ(99．99％)和N2(99．999％)。及C、N原子所处化学键合状态进行分析，结果如 因为通过沉积一层TiN中间过渡层可以形成合理 图2所示。从C№薄膜的XPS全谱图可以发现存在 的弹性梯度【21，有利于提高结合力，所以对CM薄膜 样品沉积了一层中间过渡层TiN，厚度约为l