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光绘制版技术 在20世纪七八十年代，随着个人计算机的发展，印制板CAD技术得到了极大的进步，印制板设计向多层、细线条、小孔径、高密度方向迅速发展。现有的照相制片工艺已经不能满足印制板的设计需要，于是出现了光绘技术。使用光绘技术制作印制板照相底片，速度快、精度高、质量好，而且避免了在人工贴图或绘制照相底图时可能出现的人为错误，大大提高了工作效率，缩短了印制板的生产周期。 contents ①光绘机 ②胶片结构 ③暗房处理 光绘机 光绘机是指用光来绘图的一种仪器。 一台光绘机应该被告知：用哪一种工具；什么时候用此工具；下一步光头移至哪里；走直线还是弧线。 光绘机主要类型： 1.矢量光绘机 2.激光光绘机 光绘机 1.矢量光绘机 原理：底片固定在光绘机平台上，平台作水平方向移动。光学头的移动方向和平台的移动方向互相垂直。在码盘的上方是光源，下方为一光学镜头。码盘上符号的影像通过镜头投影到胶片上。静止曝光时，在底片上得到焊盘图形，移到曝光时则构成线条。各种符号盘分布在码盘圆周的不同位置上，旋转码盘，即可得到不同的曝光符号，在底片上产生不同的图形。 光绘机 特点： 1.速度慢 2.符号有限 3.图形精度低，图素有限 光绘机 2.激光光绘机 原理： 激光光绘机是用激光对菲林进行扫描产生图形。首先，将印制电路板的图面映像到一个大存储阵列中，然后使激光束按照存储阵列中相应单元的值被打开或关闭(调制)，从而得到所需要的工艺菲林。 光绘机 光绘流程： Gerber是一种含有X. Y坐标和附命令的计算机程序 CAM:计算机辅助制造 光绘机 内圆筒式激光光绘机 底片由真空吸附在一圆桶状内壁上。光源发射的激光经电子快门及光束强化器的光点选择口后，再由两块45°反射镜反射至高速自转(200r/s)的斜置反射镜上，再反射到底片上。由于此斜反射镜的高速旋转，反射至底片上的光点形成连续线条。反射镜在作高速旋转的同时，随其基座“自转镜头”以12cm/min的速度做左右横向移动。 光绘机 外滚筒式激光光绘机 强力真空泵将底片吸附在圆形滚筒外侧，滚筒以500r/min的速度快速旋转。激光头发射的激光束经反射镜反射到光源座，被分成32束光素，同时光绘数据也通过电缆送入光源座，对32条激光束进行控制，在底片上一行同时曝光32个像素，在滚筒旋转的同时，光源座做横向左右移动，完成扫描曝光。 光绘机 特点： 1.速度快 2.易聚焦 3.边缘整齐，反差大，不虚光 胶片结构 胶片结构 保护层是一层透明的明胶薄膜，用来保护乳剂层不受摩擦，产生“摩擦灰雾”。即防止乳剂划伤、压伤及磨伤。 胶片结构 乳剂层又称感光层，是感光材料的主体，是对光线敏感的物质，是记录客观物体影像的介质，由卤化明胶、辅助剂组成。 胶片结构 支持体起支持乳剂层的作用。要求有一定的透明度，平整度和机械强度，制版用软片采用聚酯片基。 胶片结构 防光晕层主要防止反射光晕和散射光晕。 暗房处理 1.显影 2.定影 3.水洗 4.加厚减薄 暗房处理 1.显影 显影液通常包含还原剂、保护剂、促进剂和防灰雾剂等。 ①还原剂 使感光的银盐还原成金属银。显影液常用的还原剂有几奴尼(对苯二酚)、米吐尔(对甲基苯酚)及阿米多尔(对氨基苯酚)等几种。 ②保护剂 防止显影剂氧化和深液污染底片，并同时参加显影，在显影液中加人一种比显影剂更易氧化的保护剂来防止显影剂失效，常用的保护剂是亚硫酸钠。 ③促进剂 大部分显影剂都要在碱性条件下才有显影性，因此在显影液中常用碱性物质提高溶液的pH值，以促进显影作用，所以这些物质叫促进剂或加速剂。常用的促进剂为碳酸钠。 ④防灰雾剂 阻止乳胶层中未曝光部分的银盐电离，限制银离子的还原，防止产生灰雾，增强反差。显影液中常用的防灰雾剂为溴化钾。 暗房处理 2.定影 胶片经过显影后还需要将未曝光还原的溴化银溶解掉，以防止这些溴化银在光线的作用下逐渐变为黑色，使影像无法保存。常用的定影液包含络合剂、中和剂、保护剂、坚膜剂、加速剂和防污剂等。 3.水洗 感光材料经过定影后，乳剂层中仍残留大量硫代硫酸钠和银的络合物，严重影响图像的保存性，必须用水清洗除去。 4.加厚减薄 在制版过程中，有时会由于曝光或显影不当，造成底版密度不够，反差不大。这时可在定影以后，采用物理显影的方法进行加厚。反之，如果曝光或显影过度，引起底版密度偏高。透明部分密度太高，不够透明，而且还会造成图形边缘有过渡区，这时必须进行减薄处理。 暗房处理 注意事项： 避免手直接接触菲林、切忌划伤菲林药膜。 显影时间：影响菲林的黑度和反差。时间短，黑度和反差均 不够；时间过长，底灰加重。具体时间的确定由菲林品种、 光绘机光强、显影药、环境