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三维立体结构微纳电极研究.pdf
38 ( FENXIHUAXUE) 5
2010 5 Ch inese Journal of Analytical Chem istry 8~ 72
研 究 快报
DOI: 10. 3724 / SP. J. 1096. 2010. 00668
*
孙楫舟 夏善红 边超 佟建华 张虹 董汉鹏 陈庆永
( , 100080)
, ( MEM S)
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2 2
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( 973, No. 2009CB320300), ( No. 2009ZX07527
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* Em ail: jzhsun04@ m a ils. gucas. ac. cn
5 : 9
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2
( 1mm ), ( ( 100))
, ,
( 1b)
, ( SEM )
( 1c) 50 m,
1
F ig. 1 Schem atic structure of three dmi ensional ( 3D) m icroelectrode chip
a. (M icroelectrode system chip); b. ( 3D structure ofw orking elec
trode surface); c. SEM ( SEM mi age of electrode structure after
Anisotropic w et etching)
2. 2
2
85 KOH
2
Fig. 2 Process flow of 3D pyram idal m icropool array
1. ( Silicon chip cleaning); 2. ( LPCVD Si N ); 3. , ( Spinning ofphotoresist); 4. , ,
3 4
( Patterning of photoresist); 5. ( PE Si N ); . ( )( Anisotropic w et etching); 7.
3 4
( PE Si N
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