磁流变抛光中磁场对表面粗糙度影响的研究开题报告.docVIP

毕业设计(论文)开题报告 设计(论文)题目： 磁流变抛光中磁场 对表面粗糙度影响的研究 学生姓名： 学 号： 学院（系）： 光电工程学院 专 业： 指导教师： 年 月 日毕业设计（论文）开题报告 1．毕业设计（论文）题目背景、研究意义及国内外相关研究情况。 1．题目的背景及研究意义 随着科技的进步，超光滑表面光学零件在诸如软X射线光学系统、高能激光反射镜、激光陀螺反射镜、高密度波分复用器、功能光电材料、光学窗口等许多高新技术中得到广泛应用[1]，这也使得超光滑表面的制造技术倍受人们关注。磁流变抛光(Magnetorheological Finishing, MRF)技术[2]是近二十年新兴的一种先进光学制造技术。它是利用磁流变抛光液在磁场中的流变性进行抛光，具有材料去除率稳定、适合复杂面形加工、便于数控、抛光效率高等优点，特别在超光滑非球面光学零件的加工中有广阔的应用空间。在磁流变抛光技术中，有许多工艺因素制约着最终的加工质量。其中，磁场是最为重要的因素之一。研究磁流变抛光中磁场对工件表面粗糙度的影响对于深入探讨磁流变抛光机理、准确建立数学模型、寻求最佳工艺参数、改进完善抛光设备以及进一步实现数控加工都有重大意义。 2．国内外相关研究现状 90年代初，William.I. Kordonski，I. Prokhorov[3]及其合作者将流体力学和电磁学的相关理论应用于光学加工中，发明了磁流变抛光技术。1994年，他们对磁流变抛光液进行了研究，得出磁流变抛光液粘度随磁场强度的变化规律，对磁流变抛光液在抛光过程中的特性从微观角度作了解释，并在他们自己研制的磁流变抛光样机上对一些玻璃元件进行了初步的抛光试验。1995年，美国Rochester大学的光学加工中心(COM)利用磁流变抛光方法对一批直径小于50mm的球面和非球面光学元件进行了加工，结果材料为熔石英的球面元件表面粗糙度降0.8nm(rms) ；面形误差为0. 09μm（P-V）；材料为BK7 的非球面元件表面粗糙度降到1nm(rms)；面形误差为0. 86μm（P-V），这些光学元件都达到了图纸要求。1996年, William.I. Kordonski等人用流体动力学润滑的理论对磁流变抛光进行了初步的理论分析。他们发现磁流变抛光中的流体运动形式类似于轴颈轴承润滑时流体的运动形式， 并对磁流变抛光中的剪切应力进行了理论推导。1997 年，COM 的研究人员对初始面形精度为30nm(rms)左右的熔石英及其它六种玻璃材料光学元件进行试验, 经过5-10min的抛光, 面形精度达到了1nm左右。同时, 他们又对磁流变抛光液成分进行了化学分析, 通过以氧化铝或金刚石微粉等非磁性抛光粉代替原磁流变抛光液中的非磁性抛光粉氧化铈, 较为成功地对一些红外材料进行了抛光[2]。1998年4月, 他们将快速文本编辑程序(QED)技术引入Q22 型磁流变抛光机中，研制出了商用磁流变抛光机，从而实现对光学元件的确定性加工，大大缩短了抛光时间, 提高了抛光效率，使磁流变抛光技术走向了商业化，该机床能够加工直径为10-200mm的多种材料光学零件。近年来，COM研究人员继续对磁流变抛光的机械和化学原理进行了研究，确定了一系列不同的抛光粉对不同材料的去除率。 国内对于磁流变抛光技术的研究起步较晚，与国外有一定差距。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所[4]对磁流变抛光技术进行了深入地研究，设计了与分析式铁谱仪磁路类似的永久磁铁磁路，研制了一套磁流变抛光装置。同时他们对磁流变抛光机理和数学模型作了较深入的理论研究，通过实验对建立的数学模型进行了初步检验，分析了磁流变抛光加工中的重要工艺参数，同时他们还和复旦大学合作进行了油基磁流变液的研制，将其应用于实际抛光中取得了不错的效果，并对磁流变抛光理论(抛光区域的形成等)也进行了初步探讨。清华大学[5]自主设计了一种特殊的磁性轮式抛光工具，该种磁性抛光轮在加工工件时，可以同时进行公转和自转。在该抛光方法中，在非剪切磁流变液的表面和工件的表面之间形成了一个狭小的间隙，在间隙内形成了一个高梯度的磁场，进入梯度磁场的磁流变抛光液就会发生磁流变效应，成为具有粘塑性的Bingham介质，并且产生突起，形成柔性磨头。西安工业大学从面接触式的抛光思想出发，自主设计了适合于磁流变抛光的环带闭合磁场，并在原有仪器机械结构的基础上，设计出相应的机械结构和两套独立的磁流变液循环系统和抛光液循环系统，完成了一台实验样机，并在该样机上进行了初步的工艺实验，但对于某些工艺因素对表面粗糙度和表面质量的具体影响还未进行深入的探索。复旦大学，电子科技大学和中国科技大学同