立轴精密平面磨削纳米结构WC%2f12Co涂层的材料去除机理研究.pdfVIP

立轴精密平面磨削纳米结构WC/12Co 涂层的 材料去除机理的研究* 邓朝晖 张 璧 孙宗禹 (湖南大学机械与汽车工程学院 长沙 410082) 摘要：本文应用扫描电镜(SEM)对立轴精密平面磨削纳米结构WC/12Co(n-WC/12Co)涂层磨削表面/亚表面 形貌进行观察和分析，结合对n-WC/12Co 涂层精密磨削的单颗磨粒磨削力、磨削力分力比、比磨削能、 磨削表面粗糙度的磨削实验结果的分析，揭示了n-WC/12Co 涂层精密磨削的材料去除机理。研究表明， 在大多数磨削条件下，n-WC/12Co 磨削的材料去除机理主要是非弹性变形方式，以塑性变形为主，伴随 一定的材料粉末化，材料脆性碎裂去除方式极少。其研究结论对纳米结构WC/12Co 涂层的工业化应用具 有重要的理论和实用价值。 关键词：纳米结构WC/12Co 涂层 精密磨削 材料去除机理 非弹性变形 SEM 观察 中图分类号：TG580 0 前言* 近些年来，人们采用颗粒重组工艺(造粒工艺)将纳米级陶瓷颗粒形成具有纳米结构的微米级聚 合体，然后再在金属基体上采用高速火焰喷涂