精细化工生产工艺（ 第二版） 教学课件 作者 刘德峥 主编 第12章 电子化工材料.pptVIP

尚辅网 尚辅网 尚辅网 1.依晶型分类 液晶通常可分为层列型、向列型和胆甾醇型三种。 2.依据应用分类 （1）普通液晶材料； （2）宽温度范围用液晶材料； （3）简单矩阵式LCD用液晶材料； （4）有源矩阵式LCD用液晶材料； （5）STN型LCD用液晶材料； （6）强介电液晶材料。 一、液晶的分类 尚辅网 典型的液晶产品如下所示： 1.N-4-丙基苯亚甲基-4-氰基苯肟 2.4-戊基-4’-甲氧基偶氮苯 3.环己基环己烷系列液晶 二、液晶材料 尚辅网 Thank you * 精细化工生产工艺 尚辅网 半导体基材 2 概述 1 第十二章 电子化工材料 光致抗蚀剂配套试剂 4 光致抗蚀剂 3 尚辅网 超大规模集成电路用试剂 6 酸和蚀刻剂 5 第十二章 电子化工材料 液晶材料 8 其他高纯物质 7 尚辅网 第一节 概述 1 2 电子化工材料的定义 电子化工材料的分类 尚辅网 广义地说，电子化工材料是指电子工业中所使用的化工材料，即电子元器件、印刷线路板、整机生产和包装用的各类化学品及化工材料。但实际上，往往将电子化工材料狭义的定义为半导体电子元器件、集成电路及印刷线路板行业中使用的专用化工材料，又称为电子化学品。 电子化工材料是信息产业发展的重要支柱，随着现代电子工业的发展而高速发展，其产量和品种都大幅增加。仅以品种而言，电子化工材料已经占到了电子材料的50%以上。电子化工材料已经形成为一个独立的门类。 一、电子化工材料的定义 尚辅网 二、电子化工材料的分类 尚辅网 第二节 半导体基材 1 2 单晶硅片 砷化镓 3 4 蓝宝石上外延硅片（SOS） 陶瓷基片 尚辅网 1.单晶硅片的生产 2.单晶硅片的磨抛 一、单晶硅片 尚辅网 砷化镓是化合物半导体单晶，由熔融镓和砷蒸气或砷化合物在高温下反应生成砷化镓，然后用水平直拉法得到单晶。主要用于制造发光二极管，也用于其他分立元件或高速集成电路。 二、砷化镓 尚辅网 SOS晶片是在蓝宝石 或尖晶石 等绝缘材料上气相外延生长硅薄膜得到的单晶材料。使用它制作的器件，具有功耗低、开关速度快、抗辐射、抗干扰、温度适应性好、集成度高等特点，但由于制备方法复杂、成本高，目前主要应用于军事目的。 三、蓝宝石上外延硅片（SOS） 尚辅网 以高纯度氧化铝（矾土）为主要原料，经高压成型、高温烧结等工艺制成，具有高纯度、高平整度、微波介电性能优良、耐化学腐蚀等特点，是制造厚膜、薄膜材料的基础材料，也是制造微波用设备的主要原料。 四、陶瓷基片 尚辅网 第三节 光致抗蚀剂 1 2 光刻工艺 光致抗蚀剂的分类 3 光致抗蚀剂的应用 尚辅网 把被加工物品的表面上涂覆上一层抗腐蚀的感光树脂材料涂层，蒙上要制作的图像，利用这种感光材料见光后性质的变化，进行曝光、显影，使要腐蚀的区域裸露出来，然后进行化学或电化学腐蚀，从而得到精细的图案的方法，称为光刻法，或称光化学腐蚀法。 一、光刻工艺 尚辅网 二、光致抗蚀剂的分类 光刻法中所使用的感光树脂材料称为光致抗蚀剂。它属于非银盐感光材料中光聚合体系的范畴。按照反应机理的不同，以及显影时是将曝光还是未曝光的部分除去的区别，光致抗蚀剂有正型和负型之分（表12-1）按照使用时的曝光光源的不同，又可分为可见光致抗蚀剂、紫外光致抗蚀剂和辐射线致抗蚀剂等。 尚辅网 三、光致抗蚀剂的应用 1.印刷线路板用光致抗蚀剂 （1）丝网印刷用光致抗蚀剂 （2）干膜抗蚀剂 （3）液体抗蚀剂 2.集成电路用光致抗蚀剂 （1）紫外光致抗蚀剂 （2）电子束抗蚀剂 （3）X射线抗蚀剂 （4）离子束抗蚀剂 尚辅网 第四节 光致抗蚀剂配套试剂 1 2 去胶剂 干膜显影剂 3 正型光致抗蚀剂显影剂 4 负型光致抗蚀剂显影剂 尚辅网 第四节 光致抗蚀剂配套试剂 尚辅网 一、去胶剂 去胶剂又名剥离剂，在蚀刻电镀加工后，用于将保留的胶膜除去。与显影剂不同的是它要除去的是不溶性的坚硬的抗蚀剂，但又不能破坏底层材料。 去胶有湿法和干法两种。湿法去胶是用强氧化剂、有机溶剂或专用的配套去胶剂等，使光刻胶膜碳化脱落、浸泡溶胀脱落或溶解。干法去胶有等离子体去胶、紫外光照射去胶、通氧气去胶等方法，最常用的是等离子体去胶法。 尚辅网 二、干膜显影剂 用于干膜光致抗蚀剂生产印刷线路板时的显影，就是将曝光后的抗蚀剂层中的可溶部分除去的过程。干膜显影剂共分三类：溶剂型，水溶液型和半水溶液型。使用时将印刷线路板浸入显影剂中一定时间即可。 尚辅网 正型光致抗蚀剂显影剂一般采用无机碱（如氢氧化钠、氢氧化钾）或有机碱的弱碱性水溶液，用来除去曝光部分的胶膜。可以采用浸泡法，也可采用更先进的喷淋法，将高分散的显影剂均匀喷淋于胶膜表面，以减少溶胀，获得更清晰、分辨率更高的图像。 三、正型光致抗蚀剂显影剂 尚辅网 负