纳米TiO2复合薄膜光生阴极保护特性地研究.pdfVIP

i 纳米T0。复合薄膜光生阴极保护特性的研究 李静 杜荣归林昌健’ (厦门大学化学化T学院化学系．固体表面物理化学国家重点实验室， 厘门361005) 摘要： 合膜，31A紫外光照对薄膜进行改性。利用sEM，XRD，XPS等手段，对纳米薄膜的形貌、晶型、组成等进行表征．采用 腐蚀电化学和光电化学相结合技术，测试膜层的光电化学性质，研究Ti02及复合半导体薄膜对金属基体的光生阴极保 外光照射下可使316不锈钢和铜基体处于阴极保护状态，停止光照后，光生电位仍可维持较低电位一段时闻。掺N的 n02膜对波长大于500hm的可见光具有较强的光电响应，光照下对316L和铜基体起到阴极保护作用，暗态下、光生电 位继续保持。 关键词：光生阴极保护、纳米Ti02复合膜、腐蚀与保护、紫外光、可见光 l前言 近年来，纳米Ti02的光电化学特性及其在太阳能电池、光催化降解污染物等领域的戍用已有大 量的研究。将光照下涂覆于金属表面的纳米氧化钛薄膜产生的光生阴极保护作用应用于金属防腐蚀 已经引起科学家的极大兴趣。所谓光生阴极保护指的是，半导体薄膜在光照条件下，价带电子吸收光予 激发跃迁到导带’产生光生电子．空穴对，光生电子向电势较低的金属表面迁移，