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- 2017-08-18 发布于安徽
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利于薄膜的结晶。
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圈3不同射频功率f样品的Raraan谱
4结论
本文以样品的Ram.an谱作为分析手段研究了不同沉积参数对多晶硅薄膜结晶状况的
影响,得出以下结论:随着温度的升高、氢稀释的增强样品逐渐由非晶硅薄膜向多晶转变,
温度的升高要考虑衬底的承受温度,氢稀释的增强要考虑沉积速率。射频功率太大太小都
不利于薄膜结晶。以上规律可以指导我们直接沉积出用于太阳电池的多晶硅薄膜,以及沉
积出二次晶化所要求的纳晶硅薄膜。
作者简介李瑞,女,1980年出生,河南西平县人,现为郑州大学物理工程学院零二级材料物理与
化学专业在读
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